[發明專利]一種基于MoO3 在審
| 申請號: | 202010017147.7 | 申請日: | 2020-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN111122661A | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發明(設計)人: | 王釗;胡克洋;楊樹林;顧豪爽 | 申請(專利權)人: | 湖北大學 |
| 主分類號: | G01N27/00 | 分類號: | G01N27/00;B82Y15/00 |
| 代理公司: | 武漢帥丞知識產權代理有限公司 42220 | 代理人: | 劉丹;朱必武 |
| 地址: | 430062 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 moo base sub | ||
1.一種基于MoO3納米帶修飾石墨烯的室溫FET型氫氣敏感元件的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1:氧化鉬納米帶的制備
首先在聚四氟乙烯反應釜中加入去離子水,然后將雙氧水加入到去離子水中,在冰浴下邊攪拌邊將鉬粉緩慢加入,待溶液由墨綠色變為橘黃色,繼續攪拌30~60min,最后將聚四氟乙烯反應釜放到金屬反應外殼中并置于水熱烘箱在170℃~200℃下保溫36~72h,待反應完成過后,將所得產物用去離子水和無水乙醇清洗至中性并烘干,得到外觀為白色粉末狀的氧化鉬納米帶;
步驟2:電極的制備
采用標準直流磁控濺射技術,在Ar氣氛與70W濺射功率的條件下濺射Au,首先在以Si/SiO2為基底的單層石墨烯襯底上濺射源漏電極,源漏電極的長寬比為8:3,接著在Si襯底濺射Au作為柵電極,Au的厚度為20~40nm;
步驟3:氫氣敏感元件的構筑
(1)噴涂實驗儀器的準備:采用噴筆一只、加熱設備、可升降光學平臺、真空泵,將噴筆連接在真空泵的一端,光學平臺控制噴筆的位置,準備把配置好的混合液進行成膜噴涂;
(2)稱取步驟1中獲得的氧化鉬納米帶粉末加入到盛有乙醇溶液的石英管中,其中氧化鉬納米帶粉末和乙醇溶液的用量摩爾比例為:1:100,得到溶液A;其中乙醇溶液的密度為0.7893g/ml;
(3)將溶液A經超聲處理5~30min,超聲頻率為50~100Hz;
(4)用移液槍量取步驟(3)超聲處理后的溶液A,放入裝有乙醇溶液的噴筆中,其中步驟(3)超聲處理后的溶液A與乙醇溶液的體積用量比例為:1:400;
(5)固定步驟4中的噴筆與器件的距離為15cm以及真空泵的氣壓為0.5帕,把步驟(4)噴筆中的溶液噴涂到磁控濺射得到的源漏電極中心部位,噴涂時間為5~50s,經加熱設備烘干后,200℃退火2h,組裝得到基于MoO3納米帶修飾石墨烯的FET型氫氣敏感元件。
2.根據權利要求1所述的基于MoO3納米帶修飾石墨烯的室溫FET型氫氣敏感元件的制備方法,其特征在于,步驟1中,去離子水、雙氧水和鉬粉用量的摩爾比為:30:25:1.其中去離子水的密度為1g/ml,雙氧水的密度為1.13g/ml。
3.根據權利要求1所述的基于MoO3納米帶修飾石墨烯的室溫FET型氫氣敏感元件的制備方法,步驟1中,烘干條件為在60℃下干燥12h。
4.根據權利要求1所述的基于MoO3納米帶修飾石墨烯的室溫FET型氫氣敏感元件的制備方法,步驟3中的第(5)步驟中的噴涂時間為50s時,得到的MoO3納米帶修飾石墨烯的FET型氫氣敏感元件性能最好。
5.一種采用如上所述的基于MoO3納米帶修飾石墨烯的室溫FET型氫氣敏感元件的制備方法得到的室溫FET型氫氣敏感元件,其特征在于,應用于制備石墨烯基氫氣傳感器。
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