[發(fā)明專利]筆跡實(shí)現(xiàn)與優(yōu)化方法、裝置與計(jì)算機(jī)設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010015347.9
• 申請(qǐng)日: 2020-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN111273807A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳細(xì)杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通彩視聽科技（上海）有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;G06F3/0488
• 代理公司: 深圳眾鼎匯成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44566
• 代理人: 吳立

1.一種筆跡實(shí)現(xiàn)和優(yōu)化方法，其特征在于，包括：

獲取書寫筆跡時(shí)觸發(fā)的觸控點(diǎn)的觸控信息與采樣信息；其中，所述觸控信息包括所述觸控點(diǎn)的坐標(biāo)，所述采樣信息包括書寫壓力與書寫速度中的至少一項(xiàng)；

對(duì)所述觸控信息進(jìn)行篩選，確定第一虛擬筆跡中心點(diǎn)，得到第一虛擬筆跡中心點(diǎn)信息；并根據(jù)所述第一虛擬筆跡中心點(diǎn)信息，確定第二虛擬筆跡中心點(diǎn)，得到第二虛擬筆跡中心點(diǎn)信息；其中，所述第一虛擬筆跡中心點(diǎn)與所述第二虛擬筆跡中心點(diǎn)的骨架線呈平滑曲線；

根據(jù)所述采樣信息確定筆跡寬度；

根據(jù)所述第一虛擬筆跡中心點(diǎn)信息、第二虛擬筆跡中心點(diǎn)信息與所述筆跡寬度確定筆跡邊緣點(diǎn)信息；

根據(jù)所述第一虛擬筆跡中心點(diǎn)信息、第二虛擬筆跡中心點(diǎn)信息與所述筆跡邊緣點(diǎn)信息渲染實(shí)現(xiàn)筆跡。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的筆跡實(shí)現(xiàn)和優(yōu)化方法，其特征在于：所述根據(jù)所述采樣信息確定筆跡寬度，包括：

根據(jù)所述書寫壓力確定中間參數(shù)，根據(jù)所述書寫速度與所述中間參數(shù)確定所述筆跡寬度；

或者，

根據(jù)所述書寫速度確定中間參數(shù)，根據(jù)所述書寫壓力與所述中間參數(shù)確定所述筆跡寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的筆跡實(shí)現(xiàn)和優(yōu)化方法，其特征在于：當(dāng)所述根據(jù)所述書寫壓力確定中間參數(shù)，時(shí)：

Width_p＝b_pWidth+b_pWidth*iPercent*PFactor

其中，Width_p為第一筆跡寬度，此時(shí)Width_p為所述中間參數(shù)；b_pWidth為第一預(yù)設(shè)筆跡寬度；iPercent為第一預(yù)設(shè)筆跡因子；PFactor為壓力影響參數(shù)，PFactor＝pressure/MAX_PRESSURE，pressure為所述書寫壓力，MAX_PRESSURE為預(yù)設(shè)最大書寫壓力；

所述根據(jù)所述書寫速度與所述中間參數(shù)確定所述筆跡寬度為：

Width_v＝b_vWidth*(1-jPercent)+b_vWidth*jPercent*VFactor

其中，Width_v為第二筆跡寬度，此時(shí)Width_v為所述筆跡寬度；b_vWidth為第二預(yù)設(shè)筆跡寬度，此處b_vWidth＝Width_p；jPercent第二預(yù)設(shè)筆跡因子；VFactor為速度影響參數(shù)，VFactor＝1-velocity/MAX_VELOCITY，velocity為所述書寫速度，MAX_VELOCITY為預(yù)設(shè)最大書寫速度。