[發明專利]一種用于光刻過程頂部抗反射膜生產的含氟水溶性高分子材料無效
| 申請號： | 202010013964.5 | 申請日： | 2020-01-07 |
| 公開（公告）號： | CN111171192A | 公開（公告）日： | 2020-05-19 |
| 發明（設計）人： | 李永斌;錢亞飛;何龍龍;陳志鵬;汪叔林 | 申請（專利權）人： | 甘肅華隆芯材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C08F8/18 | 分類號： | C08F8/18;C08F8/24;C08F120/06;G03F7/004 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知識產權代理有限公司 51230 | 代理人： | 張串串 |
| 地址： | 730900 甘肅省白銀市白銀區蘭包路33*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 光刻 過程 頂部 反射 生產 水溶性 高分子材料 | ||
【權利要求書】：
1.一種含氟水溶性高分子材料，其特征在于：
將水溶性高分子樹脂進行羧基改性，其中水溶性高分子樹脂的主鏈為聚丙烯酸
將支鏈的羧基變為-COORf，其中Rf是全氟聚醚結構或全氟直鏈結構單元，
全氟聚醚結構采用
其中m為0～9，
全氟直鏈結構采用CF3(CF2)n，其中n為1～6，
水溶性聚丙烯酸分子量Mw是1000～100000，
含氟水溶性高分子中，氟元素分子量應為總分子量的1～60％。
2.如權利要求1所述的一種含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述Rf是全氟聚醚結構，全氟聚醚結構聚合度為1～4。
3.如權利要求1所述的一種含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述全氟直鏈結構采用CF3(CF2)n，其中n為1～3。
4.如權利要求1所述的一種含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述含氟水溶性高分子材料的Mw是1000～10000。
5.如權利要求1所述的一種含氟水溶性高分子材料，其特征在于：所述含氟水溶性高分子中，氟元素分子量應為總分子量的10～50％。
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