[發明專利]一種控電位脫除銅冶煉粗硒粉中銅、鉛和碲的方法在審
| 申請號： | 202010013602.6 | 申請日： | 2020-01-07 |
| 公開（公告）號： | CN111115589A | 公開（公告）日： | 2020-05-08 |
| 發明（設計）人： | 楊斌;查國正;蔣文龍;徐寶強;劉大春;孔祥峰;羅歡;黃大鑫;郭新宇;鄧聚海;陳秀敏;李一夫;郁青春;楊紅衛;田陽;鄧勇;王飛;熊恒;楊佳;吳鑒 | 申請（專利權）人： | 昆明理工大學 |
| 主分類號： | C01B19/02 | 分類號： | C01B19/02;C22B7/00;C22B15/00;C22B13/00 |
| 代理公司： | 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385 | 代理人： | 朱玲艷 |
| 地址： | 650504 云南*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電位 脫除 冶煉 粗硒粉中銅 方法 | ||
1.一種控電位脫除銅冶煉粗硒粉中銅、鉛和碲的方法，其特征在于，包括以下步驟：
將銅冶煉粗硒粉進行調漿，得到硒泥漿；
將所述硒泥漿進行第一pH值調節后加入氧化劑至氧化電位，依次進行第一沉淀反應和第一過濾，脫除銅冶煉粗硒粉中的銅和鉛，得到初級硒；所述氧化電位為400～800mV；進行所述第一pH值調節后，得到的漿料的pH值為1～4；
將所述初級硒與還原劑混合至還原電位，進行第二pH值調節后，依次進行第二沉淀反應和第二過濾，脫除銅冶煉粗硒粉中的碲；所述還原電位為-400～0mV；進行所述第二pH值調節后，得到的漿料的pH值為7～12。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，以質量百分含量計，所述銅冶煉粗硒粉的化學成分包括：Se 60～80％，Te 1～10％，Cu 0.01～5％，Pb 0.01～5％，H2O 5～30％，其余為微量雜質元素Fe、S、Sn、As和Ni。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述銅冶煉粗硒粉的粒徑為0.1～300μm。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述氧化劑為高錳酸鉀、次氯酸鈉、過氧化氫和二氧化錳中的一種或多種。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一沉淀反應在攪拌的條件下進行；所述攪拌的速率為30～300rpm，時間為0.5～3h。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述還原劑為亞鐵鹽或亞硫酸鹽。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二沉淀反應在攪拌的條件下進行；所述攪拌的速率為30～1000rpm，時間為0.5～3h。
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