[發(fā)明專利]一種防止鑄件冒口根部裂紋的鑄造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010012855.1
• 申請日: 2020-01-07
• 公開（公告）號: CN111014586A
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙紅樂;張緯;惠亞興;高立民;尹冠威;張千龍;張興屹;王江慧;寧養(yǎng)豪;李顯榮;李志勇;陸洋;吳文俊
• 申請（專利權(quán)）人: 晉西裝備制造有限責任公司;晉西車軸股份有限公司
• 主分類號: B22C9/08
• 分類號: B22C9/08
• 代理公司: 北京隆源天恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11473
• 代理人: 涂杰

本發(fā)明提供了一種防止鑄件冒口根部裂紋的鑄造方法，包括：制備與鑄造用縮頸冒口的冒口頸適配的冒口圈，并將冒口圈固定在所述縮頸冒口的冒口頸處形成所述鑄件冒口，填砂合箱進行澆注；開箱后，切割所述鑄件冒口，所述鑄件冒口切割后留有殘余冒口，殘余冒口的高度占所述鑄件冒口高度的1/10?1/6；將帶有殘余冒口的鑄件進行清砂、拋丸、退火處理；待處理后的帶有殘余冒口的鑄件冷卻至室溫后，去除殘余冒口。本發(fā)明通過設(shè)置冒口圈與采用兩次清除冒口配合的方法，一方面使切割操作時易于掌握切割的殘余高度，另一方面，可明顯減少切割時間，從而減少切割過程中，切割火焰對冒口根部的熱影響，減少裂紋的發(fā)生，降低冒口過大而產(chǎn)生的變形開裂問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及鑄件生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種防止鑄件冒口根部裂紋的鑄造方法。

背景技術(shù)

大型鑄件的冒口相對都比較大，鑄造生產(chǎn)過程中冒口根部易于發(fā)生裂紋，并且裂紋一旦發(fā)生難于修復，較深的裂紋往往需要反復焊修，甚至導致產(chǎn)品的報廢。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在一定程度上解決如何降低鑄造過程中鑄件冒口根部出現(xiàn)裂紋的幾率。

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種防止鑄件冒口根部裂紋的鑄造方法，包括：制備與鑄造用縮頸冒口的冒口頸適配的冒口圈，并將所述冒口圈固定在所述縮頸冒口的冒口頸處形成所述鑄件冒口，將所述鑄件冒口置于鑄件上摸內(nèi)，并在砂箱內(nèi)填入型砂，緊實硬化后起模；合箱進行澆注；開箱后，切割所述鑄件冒口，所述鑄件冒口切割后留有殘余冒口，所述殘余冒口的高度占所述鑄件冒口高度的1/10-1/6；將帶有所述殘余冒口的鑄件進行清砂、拋丸、退火處理；待處理后的帶有所述殘余冒口的鑄件冷卻至室溫后，去除所述殘余冒口。

可選地，切割過程中，所述鑄件冒口的根部溫度為300-500℃。

可選地，所述殘余冒口的高度為15-30mm。

可選地，，所述冒口圈位于所述縮頸冒口與所述鑄件之間，以避免鑄造過程中所述鑄件與所述縮頸冒口接觸。

可選地，所述將冒口圈固定在所述冒口頸處包括：所述冒口圈通過砂型膠粘固定在所述冒口頸處。

可選地，所述冒口圈為由覆膜砂制備的覆膜砂砂圈，所述覆膜砂砂圈硬化后的強度大于所述型砂硬化后的強度。

可選地，所述冒口圈的高度為6-10mm。

可選地，所述冒口圈為軸向截面呈梯形的環(huán)狀結(jié)構(gòu)，且所述冒口圈的內(nèi)徑較大的一端與所述縮頸冒口的冒口頸固定連接。

可選地，，在去除所述殘余冒口后，還包括對所述殘余冒口與所述鑄件的連接處進行磁粉探傷。

可選地，所述磁粉探傷過程中，磁極間距為75mm-200mm，磁軛覆蓋區(qū)直徑大于或等于25mm。

相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明提供的防止鑄件冒口根部裂紋的鑄造方法具有以下優(yōu)勢：

(1)本發(fā)明通過在縮頸冒口與鑄件之間增加冒口圈，利用冒口圈無發(fā)熱作用，避免發(fā)熱的縮頸冒口對其接觸部位產(chǎn)生不利影響，覆膜砂砂圈事先專門制作，其強度、緊實度均高于造型時型砂硬化后的強度，可降低該部位砂型在造型和澆注過程砂型破損引起的粘砂，由于覆膜砂沙圈直接與鑄件接觸，也即冒口圈為與鑄件冒口的根部，因此，鑄件冒口根部基本無粘沙，從而減少了裂紋的發(fā)生。

(2)本發(fā)明通過設(shè)置冒口圈與采用二次清除冒口配合的方法，一方面使切割操作時易于掌握切割的殘余高度，另一方面，可明顯減少切割時間，從而減少切割過程中，切割火焰對冒口根部的熱影響，減少裂紋的發(fā)生，降低冒口過大而產(chǎn)生的變形開裂問題。

附圖說明

構(gòu)成本發(fā)明的一部分的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中：