[發明專利]等離子體處理裝置和環部件的位置偏離測量方法在審
| 申請號: | 202010012842.4 | 申請日: | 2020-01-07 |
| 公開(公告)號: | CN111446142A | 公開(公告)日: | 2020-07-24 |
| 發明(設計)人: | 尾形敦 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;徐飛躍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 等離子體 處理 裝置 部件 位置 偏離 測量方法 | ||
1.一種等離子體處理裝置,其特征在于,包括:
載置臺,其具有用于依次載置多個治具的第一載置面和用于載置環部件的第二載置面,所述環部件配置在被處理體的周圍,所述多個治具是用于所述環部件的形狀測量的治具,分別具有與所述環部件的上表面相對的相對部,所述多個治具的所述相對部在所述環部件的徑向上的位置彼此不同;
升降機構,其分別設置于所述環部件的周向上的多個位置,使所述環部件相對于所述第二載置面升降;
獲取間隔信息的獲取部,所述間隔信息表示所述第二載置面與載置于所述第一載置面的所述多個治具各自的所述相對部的間隔大小;
測量部,其在所述多個治具分別載置于所述第一載置面的狀態下,利用所述升降機構使所述環部件上升,在所述環部件的上表面與所述相對部接觸的情況下,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,測量從所述第二載置面起的所述環部件的上升距離;
厚度計算部,其基于由獲取的所述間隔信息表示的所述間隔大小和測量出的所述環部件的上升距離,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,計算在所述環部件的徑向上的多個位置中的每個位置的所述環部件的厚度;和
位置偏離計算部,其基于計算出的所述環部件的厚度,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,確定所述環部件的形狀帶有特征的特征位置,計算通過該特征位置的圓的中心位置與所述第一載置面的中心位置的偏離量。
2.如權利要求1所述的等離子體處理裝置,其特征在于:
還包括基于計算出的所述偏離量來校正所述環部件的位置的位置偏離校正部。
3.如權利要求1所述的等離子體處理裝置,其特征在于:
所述間隔大小是基于所述第二載置面與所述第一載置面之間的距離以及所述第一載置面與載置于所述第一載置面的所述多個治具各自的所述相對部之間的距離來預先確定的。
4.如權利要求1~3中任一項所述的等離子體處理裝置,其特征在于:
在所述載置臺設置有能夠吸附依次載置在所述第一載置面上的所述多個治具中的每個治具的靜電吸盤,
所述測量部在依次載置在所述第一載置面上的所述多個治具中的每個治具被所述靜電吸盤吸附的狀態下,利用所述升降機構使所述環部件上升。
5.一種等離子體處理裝置,其特征在于,包括:
載置臺,其具有用于載置治具的第一載置面和用于載置環部件的第二載置面,所述環部件配置在被處理體的周圍,所述治具是用于所述環部件的形狀測量的治具,具有與所述環部件的上表面相對的相對部,在所述相對部沿著所述環部件的徑向設置有可在上下方向移動的多個探針,
升降機構,其分別設置于所述環部件的周向上的多個位置,使所述環部件相對于所述第二載置面升降;
獲取間隔信息的獲取部,所述間隔信息表示所述第二載置面與載置于所述第一載置面的所述治具的所述相對部的間隔大小;
測量部,其在所述治具載置于所述第一載置面的狀態下,利用所述升降機構使所述環部件上升,并且利用上升中的所述環部件推升所述多個探針,在所述環部件的上表面與所述相對部接觸的情況下,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,測量從所述第二載置面起的所述環部件的上升距離;
厚度計算部,其基于由獲取的所述間隔信息表示的所述間隔大小和測量出的所述環部件的上升距離,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,計算所述環部件的厚度的基準厚度,作為所述環部件的形狀測量的基準;和
位置偏離計算部,其基于在所述環部件的形狀測量中根據所述基準厚度計算出的、所述環部件的徑向上的多個位置中的每個位置的所述環部件的厚度,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,確定所述環部件的形狀帶有特征的特征位置,計算通過該特征位置的圓的中心位置與所述第一載置面的中心位置的偏離量,
在所述環部件的形狀測量中,分別測量所述多個探針相對于所述相對部的突出量,從所述基準厚度減去所述多個探針的突出量,來對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,計算在所述環部件的徑向上的多個位置中的每個位置的所述環部件的厚度。
6.一種環部件的位置偏離測量方法,其特征在于,包括:
在具有第一載置面和第二載置面的載置臺的所述第一載置面依次載置多個治具的步驟,其中,所述第一載置面用于依次載置所述多個治具,所述第二載置面用于載置環部件,所述環部件配置在被處理體的周圍,所述多個治具是用于所述環部件的形狀測量的治具,分別具有與所述環部件的上表面相對的相對部,所述多個治具的所述相對部在所述環部件的徑向上的位置彼此不同;
獲取間隔信息的步驟,所述間隔信息表示所述第二載置面與載置于所述第一載置面的所述多個治具各自的所述相對部的間隔大小;
在所述多個治具分別載置于所述第一載置面的狀態下,利用使所述環部件相對于所述第二載置面升降的、分別設置于所述環部件的周向上的多個位置的升降機構,來使所述環部件上升,在所述環部件的上表面與所述相對部接觸的情況下,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,測量從所述第二載置面起的所述環部件的上升距離的步驟;
基于由獲取的所述間隔信息表示的所述間隔大小和測量出的所述環部件的上升距離,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,計算在所述環部件的徑向上的多個位置中的每個位置的所述環部件的厚度的步驟;和
基于計算出的所述環部件的厚度,對于所述環部件的周向上的多個位置中的每個位置,確定所述環部件的形狀帶有特征的特征位置,計算通過該特征位置的圓的中心位置與所述第一載置面的中心位置的偏離量的步驟。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東京毅力科創株式會社,未經東京毅力科創株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010012842.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





