[發(fā)明專利]測(cè)量裝置及方法、曝光裝置及方法、以及器件制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010012207.6 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111045302B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 上田哲寬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社尼康 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F9/00 | 分類(lèi)號(hào): | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;閆劍平 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測(cè)量 裝置 方法 曝光 以及 器件 制造 | ||
1.一種測(cè)量裝置,其特征在于,
具有:
照射系統(tǒng),其相對(duì)于設(shè)于沿第一方向移動(dòng)的物體的格子標(biāo)記照射測(cè)量光;
物鏡光學(xué)元件,其使基于所述測(cè)量光的來(lái)自所述格子標(biāo)記的衍射光中的0次光衰減并且使所述0次光以外的光偏轉(zhuǎn)或衍射;以及
受光系統(tǒng),其接受通過(guò)所述物鏡光學(xué)元件而偏轉(zhuǎn)或衍射的所述0次光以外的光,
所述照射系統(tǒng)一邊將所述測(cè)量光沿所述第一方向移動(dòng),一邊向沿所述第一方向移動(dòng)的所述格子標(biāo)記照射所述測(cè)量光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件具有使所述衍射光中的0次光衰減的第一區(qū)域、和使所述0次光以外的光偏轉(zhuǎn)或衍射的第二區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述照射系統(tǒng)經(jīng)由所述物鏡光學(xué)元件的所述第一區(qū)域?qū)⑺鰷y(cè)量光向所述格子標(biāo)記照射。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件在所述第一區(qū)域的周?chē)哂兴龅诙^(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件在與所述格子標(biāo)記的周期方向平行的方向上,在所述第一區(qū)域的一側(cè)設(shè)有第一光學(xué)元件,在所述第一區(qū)域的另一側(cè)設(shè)有第二光學(xué)元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件構(gòu)成為能夠繞所述測(cè)量光的光軸旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件具有多個(gè)棱鏡元件,
所述多個(gè)棱鏡元件使基于所述測(cè)量光的來(lái)自所述格子標(biāo)記的所述衍射光朝向所述受光系統(tǒng)偏轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件具有多個(gè)反射鏡元件,
所述多個(gè)反射鏡元件使基于所述測(cè)量光的來(lái)自所述格子標(biāo)記的所述衍射光朝向所述受光系統(tǒng)偏轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量裝置,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件具有多個(gè)透射型衍射光柵,
所述多個(gè)透射型衍射光柵使基于所述測(cè)量光的來(lái)自所述格子標(biāo)記的所述衍射光朝向所述受光系統(tǒng)衍射。
10.一種曝光裝置,其特征在于,
具備:
權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的測(cè)量裝置;
位置控制裝置,其基于所述測(cè)量裝置的輸出來(lái)控制所述物體的位置;以及
圖案形成裝置,其將照射能量束向所述物體照射來(lái)形成規(guī)定的圖案。
11.一種曝光裝置,其特征在于,
具備權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的測(cè)量裝置,
所述曝光裝置一邊基于所述測(cè)量裝置的輸出控制所述物體的位置,一邊將照射能量束向所述物體照射而在所述物體上形成規(guī)定的圖案。
12.一種測(cè)量方法,其對(duì)設(shè)于物體的格子標(biāo)記的位置信息進(jìn)行測(cè)量,所述測(cè)量方法的特征在于,
包括如下的步驟:
通過(guò)照射系統(tǒng)相對(duì)于設(shè)于沿第一方向移動(dòng)的所述物體的所述格子標(biāo)記照射測(cè)量光;
通過(guò)與所述物體相對(duì)的物鏡光學(xué)元件使基于所述測(cè)量光的來(lái)自所述格子標(biāo)記的衍射光中的0次光衰減并且使所述0次光以外的光偏轉(zhuǎn)或衍射;以及
通過(guò)受光系統(tǒng)接受由所述物鏡光學(xué)元件偏轉(zhuǎn)或衍射的所述0次光以外的光,
所述照射系統(tǒng)一邊將所述測(cè)量光沿所述第一方向移動(dòng),一邊向沿所述第一方向移動(dòng)的所述格子標(biāo)記照射所述測(cè)量光。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的測(cè)量方法,其特征在于,
所述物鏡光學(xué)元件具有使所述衍射光中的0次光衰減的第一區(qū)域、和使所述0次光以外的光偏轉(zhuǎn)或衍射的第二區(qū)域。
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