[發(fā)明專利]無光結(jié)晶釉及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010012147.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111003941A | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘俊明;晏廣田 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖南泰鑫瓷業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C03C8/20 | 分類號(hào): | C03C8/20 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 黃良寶 |
| 地址: | 412200 湖南省*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 無光 結(jié)晶 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種無光結(jié)晶釉及其制備方法,無光結(jié)晶釉在1205℃的窯爐中燒成,無光結(jié)晶釉所使用的釉料中含的組分及各組分質(zhì)量份如下:氧化鋅20份;石英:15份;方解石:5份;二氧化鈦:15份;鋰輝石:5份;滑石:5份;白云石:5份;界牌泥:10份;高硼熔塊:10份;鐵紅:1份。它能在低溫環(huán)境下快燒得到,節(jié)省了燒成成本,具有較好的晶體。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種無光結(jié)晶釉及其制備方法。
背景技術(shù)
目前,現(xiàn)有的結(jié)晶釉均為在高溫狀態(tài)下形成熔融晶體后,再逐步慢速成長,最終形成晶體結(jié)晶。燒成溫度較高,對(duì)能源浪費(fèi)較大。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種無光結(jié)晶釉,它能在低溫環(huán)境下快燒得到,節(jié)省了燒成成本,具有較好的晶體。
解決本發(fā)明的技術(shù)問題的技術(shù)方案是:一種無光結(jié)晶釉,它在1205℃的窯爐中燒成,它所使用的釉料中含的組分及各組分質(zhì)量份如下:
氧化鋅20份;石英:15份;方解石:5份;二氧化鈦:15份;鋰輝石:5份;滑石:5份;白云石:5份;界牌泥:10份;高硼熔塊:10份;鐵紅:1份。
本發(fā)明還提供了一種無光結(jié)晶釉的制備方法,方法的步驟中含有:
按照各組分及各組分質(zhì)量份備料;
備料依次經(jīng)過球磨、過篩、施釉和燒成;
其中,燒成在1205℃的窯爐中燒成,保溫時(shí)間要求在10分鐘以上;
過篩后的釉料細(xì)度在0.03~0.1。
采用了上述技術(shù)方案后,本發(fā)明主要采用硅鋅結(jié)晶結(jié)構(gòu),采用多種復(fù)合熔劑形成較低共融點(diǎn),采用將釉料繼續(xù)加細(xì)的方式,使得釉料中硅鋅的逐步生長,形成晶體結(jié)構(gòu),能在低溫環(huán)境下快燒得到,節(jié)省了燒成成本,具有較好的晶體。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供了一種無光結(jié)晶釉及其制備方法,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以借鑒本文內(nèi)容,適當(dāng)改進(jìn)工藝參數(shù)實(shí)現(xiàn)。特別需要指出的是,所有類似的替換和改動(dòng)對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的,它們都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。本發(fā)明的方法及應(yīng)用已經(jīng)通過較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述,相關(guān)人員明顯能在不脫離本發(fā)明內(nèi)容、精神和范圍內(nèi)對(duì)本文的方法和應(yīng)用進(jìn)行改動(dòng)或適當(dāng)變更與組合,來實(shí)現(xiàn)和應(yīng)用本發(fā)明技術(shù)。
一種無光結(jié)晶釉,它在1205℃的窯爐中燒成,它所使用的釉料中含的組分及各組分質(zhì)量份如下:
氧化鋅20份;石英:15份;方解石:5份;二氧化鈦:15份;鋰輝石:5份;滑石:5份;白云石:5份;界牌泥:10份;高硼熔塊:10份;鐵紅:1份。
在本實(shí)施例中,氧化鋅來源于上海,石英來源于岳陽,方解石來源于廣西,二氧化鈦來源于山東,鋰輝石來源于澳洲,高硼熔塊為市售材料,來源于佛山。
該無光結(jié)晶釉的制備方法,方法的步驟中含有:
按照各組分及各組分質(zhì)量份備料;
備料依次經(jīng)過球磨、過篩、施釉和燒成;
其中,燒成在1205℃的窯爐中燒成,保溫時(shí)間要求在10分鐘以上;
過篩后的釉料細(xì)度在0.03~0.1。
以上所述的具體實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明,所應(yīng)理解的是,以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
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