[發(fā)明專利]復(fù)合材料、電器和制備復(fù)合材料的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010009213.6 | 申請日： | 2020-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN113079600B | 公開（公告）日： | 2023-01-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 萬鵬;曹達華;楊玲;許智波;黃韋銘;南春來 | 申請（專利權(quán)）人： | 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司 |
| 主分類號： | B05D1/02 | 分類號： | B05D1/02;C23C4/00;C23C4/126;A47J36/02 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 尚偉凈 |
| 地址： | 528311 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 復(fù)合材料 電器 制備 方法 | ||
1.一種復(fù)合材料，其特征在于，包括：
基體；
絕緣層，所述絕緣層形成在所述基體的表面上；和
電熱合金層，所述電熱合金層形成在所述絕緣層遠離所述基體的表面上，
其中，所述電熱合金層含有金屬元素和氧元素，其中，在所述電熱合金層的至少一部分區(qū)域，所述氧元素的原子百分比為5~30at%，
所述電熱合金層為電熱合金涂層，所述電熱合金涂層包括多個電熱合金涂層亞層，所述多個電熱合金涂層亞層依次層疊設(shè)置，在所述電熱合金涂層的至少一個區(qū)域，沿著遠離所述絕緣層的方向，所述電熱合金涂層亞層中的氧含量下降。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述金屬元素包含：
15~25at%的鉻元素；
10~20at%的鋁元素；
0.1~1.5at%的釔元素；和
余量的鐵元素。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，進一步包括：
導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層形成在所述電熱合金層的至少一部分表面上，所述導(dǎo)電層是由銅或者銀形成的。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述導(dǎo)電層為導(dǎo)電涂層，在所述復(fù)合材料垂直于所述基體所在平面的至少一個截面上，所述導(dǎo)電涂層與所述電熱合金層的界面輪廓具有不低于5微米的輪廓算術(shù)平均偏差Ra，
或者，所述導(dǎo)電涂層與所述電熱合金層的界面輪廓具有不低于20微米的輪廓算術(shù)平均偏差Ra。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述導(dǎo)電涂層與所述電熱合金層的界面輪廓具有不低于8微米的最高高度Rz，
或者，所述導(dǎo)電涂層與所述電熱合金層的界面輪廓具有不低于25微米的最高高度Rz。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，在至少一部分區(qū)域，所述電熱合金層的厚度為10~150微米，
和/或，所述絕緣層是由氧化鋁、氧化硅和氮化鋁的至少之一形成的，在至少一部分區(qū)域，所述絕緣層的厚度為50~500微米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述復(fù)合材料的絕緣電壓不低于1250伏。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，在至少一部分區(qū)域，所述絕緣層的孔隙率不超過5%。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述絕緣層的孔隙率不低于0.1%。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述絕緣層的孔隙率不超過2%。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，在至少一部分區(qū)域，所述復(fù)合材料的孔隙率為0.1~3%。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述基體是由選自金屬、陶瓷和玻璃的至少之一形成的，所述絕緣層為絕緣涂層，在所述復(fù)合材料垂直于所述基體所在平面的至少一個截面上，所述基體與所述絕緣層的界面輪廓具有不低于20微米的輪廓算術(shù)平均偏差Ra，
或者，所述基體與所述絕緣層的界面輪廓具有不低于30微米的輪廓算術(shù)平均偏差Ra。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述基體與所述絕緣層的界面輪廓具有不低于25微米的最高高度Rz，
或者，所述基體與所述絕緣層的界面輪廓具有不低于35微米的最高高度Rz。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，在所述復(fù)合材料垂直于所述基體所在平面的至少一個截面上，所述電熱合金涂層與所述絕緣層的界面輪廓具有不低于5微米的輪廓算術(shù)平均偏差Ra，
或者，所述電熱合金涂層與所述絕緣層的界面輪廓具有不低于20微米的輪廓算術(shù)平均偏差Ra。
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