[發明專利]光感測系統及奈米結構層在審
| 申請號: | 202010009102.5 | 申請日: | 2020-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN113076785A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發明(設計)人: | 鐘潤文;傅旭文;鐘建屏 | 申請(專利權)人: | 廣州印芯半導體技術有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;安利霞 |
| 地址: | 510700 廣東省廣州市黃*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光感測 系統 結構 | ||
1.一種光感測系統,其特征在于,包括:
一全反射傳導層,具有一上表面與一下表面,用于使一光信息在所述全反射傳導層中全反射傳遞,其中,當一物體接觸所述全反射傳導層的所述上表面時,使所述光信息的全反射傳遞被破壞并輸出所述光信息;
一光感測層,設置于所述全反射傳導層的下方,用于接收所述光信息;
一光輸出層,設置在所述全反射傳導層與所述光感測層之間,并且直接或間接設置在所述全反射傳導層的所述下表面,所述光輸出層具有一奈米結構層,所述奈米結構層用于將所述全反射傳導層中所輸出的所述光信息傳導至所述光感測層,其具有防止光信息反射作用;
其中,所述光感測層設置為直接或間接位于所述奈米結構層下方,以接收所述奈米結構層所輸出的所述光信息。
2.如權利要求1所述的光感測系統,其特征在于,所述光感測層設置在所述光輸出層下方。
3.如權利要求1所述的光感測系統,其特征在于,所述奈米結構層形成于所述光輸出層的一表面,所述光輸出層位于全反射傳導層的下表面。
4.如權利要求1所述的光感測系統,其特征在于,所述光輸出層以一壓印方式設置于所述全反射傳導層的所述下表面,以防止所述全反射傳導層中所輸出的所述光信息反射,并且傳輸所述光信息至所述光感測層。
5.如權利要求1所述的光感測系統,其特征在于,所述光輸出層為一薄膜,將所述薄膜黏附于所述全反射傳導層的所述下表面,以防止所述全反射傳導層中所輸出的所述光信息反射,并且傳輸所述光信息至所述光感測層。
6.一種奈米結構層,應用于如權利要求1所述的光感測系統,其特征在于,包括一奈米結構,用于防止一全反射傳導層中所輸出的一光信息反射,并且傳輸所述光信息至一光感測層。
7.如權利要求6所述的奈米結構層,其特征在于,所述奈米結構的形狀設置為錐形、柱形或以上任一的組合。
8.如權利要求6所述的奈米結構層,其特征在于,形成于所述全反射傳導層的一下表面。
9.如權利要求7所述的奈米結構層,其特征在于,所述奈米結構的形狀的直徑及其高度皆介于10nm至100nm之間。
10.如權利要求7所述的奈米結構層,其特征在于,所述奈米結構層由塑料制成。
11.如權利要求7所述的奈米結構層,其特征在于,所述奈米結構的折射率小于所述全反射傳導層的折射率。
12.如權利要求11所述的奈米結構層,其特征在于,所述奈米結構的折射率介于1.3至1.5之間。
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