[發明專利]OLED面板、其蒸鍍方法和其掩膜版組

在審

• 申請號: 202010008432.2
• 申請日: 2020-01-06
• 公開（公告）號: CN111155055A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 杜驍;孔香植;李們在
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 唐秀萍

本揭示提供一種OLED面板的掩膜版組、其陰極蒸鍍方法和OLED面板。所述OLED面板包括具有攝像區的顯示區。所述掩膜版組包括第一掩膜版以及第二掩膜版。所述第一掩膜版包括共通掩膜開口區。所述共通掩膜開口區的大小覆蓋整個所述顯示區。所述第二掩膜版包括異型掩膜開口區。所述異型掩膜開口區的大小覆蓋除所述攝像區的所有所述顯示區。通過本揭示能提升所述攝像區的透過率。

技術領域

本揭示涉及一種顯示技術領域，特別涉及一種OLED面板、其蒸鍍方法和其掩膜版組。

背景技術

近年來，移動終端市場發展刺激新型顯示技術進步，為配合移動終端大屏顯示和高屏占比的需求，手機行業引入全面屏概念，意在提高手機屏幕的屏占比。為實現理想的全面屏顯示狀態，世界各地的相關從業者進行了很多理論和實際上的探索，其中屏下指紋識別系統已有產品量產，屏下攝像頭和屏下通話功能仍在開發中?，F有技術中，由于組裝手機通話模塊和攝像頭模塊需在手機屏一面預留相應的位置，所以很多新款全面屏手機均在屏幕頂端設置了缺口部分(notch)放置通話和攝像頭模塊，如IPHONE XS，華為P20系列等。也有在攝像頭區域設計開口，如三星S10系列，由于其制程為激光切除顯示區，例如主動區(active area,AA)的部分區域，故開口邊界(border)需求寬度較寬，防止激光切割使顯示區截面外露影響面板的性能。雖然該設計產出的面板可增大終端產品的屏占比，但缺口部分(notch)和打孔區域對于產品外觀而言仍較為突兀，雖然此類設計仍占用了相當大的顯示區域，但是與真正的全面屏幕的設想相差仍較大。

為實現相對真實的屏下攝像設計，終端設計者嘗試從手機模組設計上改善，如OPPO FIND X，VIVO NEX手機等，但此類設計增大了手機制造復雜程度和易損壞風險?，F顯示業界結合透明顯示相關經驗，設計透明面板，以實現顯示和屏下模組共存的設計。

與以往已開發的透明顯示器不同的是，應用于手機面板的OLED面板均為頂發射OLED器件，對于頂發射器件，其透過率影響最大的因素為聚酰亞胺(Polyimide,PI)基板、薄膜晶體管(thin film transistor,TFT)金屬走線和發射層陰極(emissive layercathode,EL cathode)。然而PI基板可更換為透明聚醯亞胺(colorless polyimide，CPI)基板提升透過，TFT金屬走線可進行堆疊設計，提升發射層陰極透過率的方法只能嘗試減薄部分區域厚度。然而頂發射器件中陽極由ITO/Ag/ITO組成，其與EL層最上層的陰極膜層可形成微腔效應增強EL器件出光效率，故對像素(pixel)發光區域陰極減薄不能提升該部分的透過率，反而會對OLED器件效率造成較大的影響。

故，有需要提供一種OLED面板、其蒸鍍方法和其掩膜版組，以解決現有技術存在的問題。

發明內容

為解決上述技術問題，本揭示的目的在于提供OLED面板、其蒸鍍方法和其掩膜版組，其能提升所述攝像區的透過率。

為達成上述目的，本揭示提供一種OLED面板的掩膜版組。所述OLED面板包括具有攝像區的顯示區。所述掩膜版組包括第一掩膜版以及第二掩膜版。所述第一掩膜版包括共通掩膜開口區。所述共通掩膜開口區的大小覆蓋整個所述顯示區。所述第二掩膜版包括異型掩膜開口區。所述異型掩膜開口區的大小覆蓋除所述攝像區的所有所述顯示區。

于本揭示其中的一實施例中，所述掩膜版組還包括第三掩膜版，所述第三掩膜版包括精密掩膜區，所述精密掩膜區的大小覆蓋整個所述攝像區，所述精密掩膜區的開口與所述攝像區的像素開口相對應。

于本揭示其中的一實施例中，所述第三掩膜版還包括第三掩膜版遮蔽區和第三掩膜框架，所述精密掩膜區和所述第三掩膜版遮蔽區交替排列，所述第三掩膜框架承載所述第三掩膜版遮蔽區，所述精密掩膜區的邊界大于所述顯示區的邊界。

于本揭示其中的一實施例中，所述精密掩膜區的所述邊界向所述顯示區的所述邊界擴展5～500μm。