[發明專利]一種超高濃度二硫化鉬納米膏及其制備方法

在審

• 申請號: 202010005410.0
• 申請日: 2020-01-03
• 公開（公告）號: CN111099657A
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 滕超;蘇立穎
• 申請（專利權）人: 青島科技大學
• 主分類號: C01G39/06
• 分類號: C01G39/06
• 代理公司: 青島中天匯智知識產權代理有限公司 37241
• 代理人: 袁曉玲

1.一種超高濃度二硫化鉬納米膏，其特征在于，包括如下組分及其重量分數：塊體二硫化鉬(10-40wt％)，分散劑是(0-4wt％)，剩余的是溶劑。

2.根據權利要求1所述的高濃度二硫化鉬納米膏，其特征在于，所述機械剝離的二硫化鉬納米片的厚度在20層以下，二硫化鉬納米片的平均尺寸在500nm左右。

3.根據權利要求1所述的高濃度二硫化鉬納米膏，其特征在于，所述分散劑采用聚乙烯基吡咯烷酮、膽酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基磺酸鈉、聚乙烯醇、木質素磺酸鈉的一種或者多種。

4.根據權利要求1所述的超高濃度二硫化鉬納米膏，其特征在于，所述溶劑采用水、甲醇、乙醇、氮甲基吡咯烷酮、N-十二烷基吡咯烷酮、吡啶、酞酸二甲酯、乙醇、丙酮、乙酸乙烯酯、乙二醇、甲苯、庚烷、戊烷、己烷、甲酰胺、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、二氯代苯、氯仿、四氫呋喃、正辛基吡咯烷酮、環己基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、二甲基咪唑酮、N-甲基甲酰胺、二甲基甲酰胺、環己烷、苯(甲)酸芐酯、異丙醇等中的一種或者多種。

5.一種如權利要求1-4所述的超高濃度二硫化鉬納米膏的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)將塊體的二硫化鉬、分散劑、溶劑按比例稱取后進行攪拌預混，得到混合液，攪拌速度為100-2000r/min；

(2)將步驟(1)所得混合液加入至以球或棒或段為介質的研磨設備中，進行機械剪切剝離，剝離時間為1-500h，通過調整實驗參數和實驗條件，一步法制備少層的高濃度二硫化鉬納米膏；

(3)步驟(2)所得到的高濃度二硫化鉬納米膏的中二硫化鉬納米片的濃度100-450mg/mL，產率90％-100％，穩定分散6月-48個月。

6.根據權利要求5中所述的二硫化鉬納米膏的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中的以球或棒或段為介質的研磨設備為高速剪切機、球磨機、礫磨機、砂磨機、剪切均質機中的一種或多種進行的高效剝離。

7.根據權利要求5中所述的二硫化鉬納米膏的制備方法，其特征在于，所述的球或棒或段的種類為氧化銅棒、氧化鋯棒、氧化鋁棒、鋼段、合金段、氧化銅段、氧化鋁段、氧化鐵段、礫石、卵石、瓷球、瑪瑙球、合金球、氧化鐵球、鋼球、鋼棒、氧化銅球、氧化鋯球、氧化鋁球、合金棒、氧化鐵棒、氧化鋯段中的一種或多種。