[發(fā)明專利]有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010004905.1 | 申請日: | 2020-01-03 |
| 公開(公告)號: | CN111048575A | 公開(公告)日: | 2020-04-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李遠(yuǎn)航 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) 發(fā)光 顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
1.一種有機(jī)發(fā)光顯示面板,其特征在于,包括:
顯示基板,所述顯示基板用于顯示畫面,所述顯示基板包括顯示區(qū)和位于所述顯示區(qū)外周側(cè)的非顯示區(qū);
觸控結(jié)構(gòu)層,所述觸控結(jié)構(gòu)層設(shè)置在所述顯示基板上;以及
偏光片,所述偏光片集成在所述顯示基板或所述觸控結(jié)構(gòu)層上;
所述偏光片包括:
擋墻,所述擋墻對應(yīng)設(shè)置在所述非顯示區(qū)且圍設(shè)在所述顯示區(qū)的外周側(cè),所述擋墻形成在所述顯示基板或所述觸控結(jié)構(gòu)層上;
第一取向?qū)?,所述第一取向?qū)有纬稍谒鰮鯄χg且覆蓋所述顯示區(qū);
1/4λ相位差層,所述1/4λ相位差層形成在所述第一取向?qū)由希腋采w所述顯示區(qū);
第二取向?qū)?,所述第二取向?qū)有纬稍谒?/4λ相位差層上,且覆蓋所述顯示區(qū);
偏光層,所述偏光層形成在所述第二取向?qū)由希腋采w所述顯示區(qū);以及
第一保護(hù)層,所述第一保護(hù)層形成在所述偏光層上,且覆蓋所述顯示區(qū)和所述非顯示區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板,其特征在于,所述擋墻包括第一擋墻和第二擋墻,所述第一擋墻對應(yīng)圍設(shè)在所述顯示區(qū)的外周側(cè),所述第二擋墻圍設(shè)在所述第一擋墻的外周側(cè),所述第一擋墻和所述第二擋墻之間形成一溝道。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板,其特征在于,所述顯示基板包括依次設(shè)置的襯底、阻擋層、緩沖層、有源層、第一絕緣層、第一柵極金屬層、第二絕緣層、第二柵極金屬層、層間介質(zhì)層、源漏金屬層、平坦層、陽極、像素定義層、有機(jī)發(fā)光層、陰極和封裝層;
所述觸控結(jié)構(gòu)層包括依次設(shè)置的第三絕緣層、第一觸控電極層、第四絕緣層、第二觸控電極層和第二保護(hù)層。
4.一種有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
提供一顯示基板,所述顯示基板包括顯示區(qū)和位于所述顯示區(qū)外周側(cè)的非顯示區(qū);
在所述顯示基板上形成觸控結(jié)構(gòu)層;
在所述顯示基板上形成偏光片;
其中,所述在所述顯示基板上形成偏光片,包括以下步驟:
在所述顯示基板上形成擋墻,所述擋墻對應(yīng)設(shè)置在所述非顯示區(qū)且圍設(shè)在所述顯示區(qū)的外周側(cè);
采用噴墨打印工藝在所述擋墻之間形成第一取向?qū)?,所述第一取向?qū)痈采w所述顯示區(qū);
采用噴墨打印工藝在所述第一取向?qū)由闲纬?/4λ相位差層,所述1/4λ相位差層覆蓋所述顯示區(qū);
采用噴墨打印工藝在所述1/4λ相位差層上形成第二取向?qū)?,所述第二取向?qū)痈采w所述顯示區(qū);
采用噴墨打印工藝在所述第二取向?qū)由闲纬善鈱?,所述偏光層覆蓋所述顯示區(qū);
在所述偏光層上形成第一保護(hù)層,所述第一保護(hù)層覆蓋所述顯示區(qū)和所述非顯示區(qū)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法,其特征在于,所述在所述顯示基板上形成觸控結(jié)構(gòu)層,包括以下步驟:
在所述偏光片上依次形成第三絕緣層、第一觸控電極層、第四絕緣層、第二觸控電極層和第二保護(hù)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法,其特征在于,所述在所述顯示基板上形成觸控結(jié)構(gòu)層,包括以下步驟:
在所述顯示基板上依次形成第三絕緣層、第一觸控電極層、第四絕緣層和第二觸控電極層;
采用光刻工藝在所述第二觸控電極層上形成圖案化的膜層,所述圖案化的膜層包括覆蓋所述第二觸控電極層的第二保護(hù)層和形成在所述第二保護(hù)層上的所述擋墻。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法,其特征在于,所述擋墻包括第一擋墻和第二擋墻,所述第一擋墻對應(yīng)圍設(shè)在所述顯示區(qū)的外周側(cè),所述第二擋墻圍設(shè)在所述第一擋墻的外周側(cè),所述第一擋墻和所述第二擋墻之間形成一溝道。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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