[發明專利]大通量氧化石墨烯濾膜的制備方法及其離子篩分的應用

在審

• 申請號: 202010003915.3
• 申請日: 2020-01-03
• 公開（公告）號: CN113069936A
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 方海平
• 申請（專利權）人: 華東理工大學
• 主分類號: B01D71/02
• 分類號: B01D71/02;B01D67/00;C02F1/44;C02F101/20
• 代理公司: 上海順華專利代理有限責任公司 31203
• 代理人: 李鴻儒

1.一種氧化石墨烯膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

將20～160mL濃度為5～50mg/L的氧化石墨烯懸浮液，旋渦并超聲后靜置，抽濾成膜，獲得所述氧化石墨烯膜。

2.根據權利要求1所述的氧化石墨烯膜的制備方法，其特征在于，所述氧化石墨烯膜的厚度為50～800nm。

3.根據權利要求1所述的氧化石墨烯膜的制備方法，其特征在于，所述抽濾成膜是以0.1～0.22μm微濾膜為基底進行抽濾。

4.根據權利要求1所述的氧化石墨烯膜的制備方法，其特征在于，所述抽濾成膜的真空度為0.1～0.5Mpa。

5.一種權利要求1至4任一項所述的方法制備的氧化石墨烯膜對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離的應用。

6.根據權利要求5所述的氧化石墨烯膜對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離的應用，其特征在于，所述應用包括以下步驟：將高價態金屬離子的水溶液用所述氧化石墨烯膜過濾，實現對高價態金屬離子的篩分分離。

7.根據權利要求5所述的氧化石墨烯膜對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離的應用，其特征在于，所述高價態金屬離子包括陽離子、陰離子，所述陽離子為二價及以上金屬陽離子。

8.根據權利要求7所述的氧化石墨烯膜對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離的應用，其特征在于，所述陽離子為Cu²⁺、Pb²⁺、Zn²⁺、Cr²⁺、Mg²⁺、Ca²⁺、Fe³⁺中的至少一種。

9.根據權利要求7所述的氧化石墨烯膜對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離的應用，其特征在于，所述陰離子為Cl^-、F^-、Br^-、I^-、OH^-、SO₄^2-、NO₃^-中的至少一種。

10.根據權利要求5所述的氧化石墨烯膜對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離的應用，其特征在于，所述氧化石墨烯膜在對高價態金屬離子的水溶液進行篩分分離時實現層間距可控，其氧化石墨烯膜的層間通道的尺寸在范圍內。