[發(fā)明專利]構(gòu)造圖井校的方法、裝置及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010001413.7 | 申請日: | 2020-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN113064215A | 公開(公告)日: | 2021-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉永福;韓劍發(fā);蘇洲;張慧芳;孫琦;吳梅蓮;彭鵬;彭麗;趙海濤;羅新生;羅海寧;仝可佳;高登寬;劉博;楊新影;黃臘梅 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油天然氣股份有限公司 |
| 主分類號: | G01V11/00 | 分類號: | G01V11/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 鈄颯颯;黃健 |
| 地址: | 100007 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 構(gòu)造 圖井校 方法 裝置 系統(tǒng) | ||
1.一種構(gòu)造圖井校的方法,其特征在于,包括:
獲取待校正井的原始信息,其中所述原始信息包括:地震資料信息和測井信息;
根據(jù)所述測井信息進行處理,得到待校正井對應目的層的多個分層;
根據(jù)所述地震資料信息進行標定,將所述目的層對應的分層標定于所述地震資料信息中,得到標定地震層位信息;
根據(jù)所述待校正井,通過移動最小二乘處理得到所述分層對應的平面誤差趨勢信息;
根據(jù)所述標定地震層位信息和所述平面誤差趨勢信息,得到所述待校正井對應的目標構(gòu)造圖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,根據(jù)所述測井信息進行處理,得到待校正井對應目的層的多個分層,包括:
對所述測井信息進行去異常處理、井徑校正處理以及標準化處理,得到所述待校正井的沉積特征;
根據(jù)所述待校正井對應目的層的沉積特征,確定多個分層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,根據(jù)所述地震資料信息進行標定,將所述目的層對應的分層標定于所述地震資料信息中,得到標定地震層位信息,包括:
對所述地震資料信息進行拓頻處理,得到第一地震資料信息;
將所述分層標定于所述第一地震資料信息中,得到所述標定地震層位信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,根據(jù)所述待校正井,通過移動最小二乘處理得到所述分層對應的平面誤差趨勢信息,包括:
構(gòu)造待鉆井平面誤差趨勢信息;
選取第一待鉆井點,并將所述第一待鉆井點代入所述待鉆井平面誤差趨勢信息,得到最佳鉆井平面誤差趨勢信息;
將第二待鉆井點代入所述最佳鉆井平面誤差趨勢信息,得到所述分層對應的平面誤差趨勢信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,根據(jù)所述標定地震層位信息和所述平面誤差趨勢信息,得到所述待校正井對應的目標構(gòu)造圖,包括:
將所述標定地震層位信息與所述平面誤差趨勢信息相加,確定所述待校正井對應的目標構(gòu)造圖。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項所述的方法,其特征在于,在得到所述待校正井對應的目標構(gòu)造圖之后,還包括:
顯示所述待校正井對應目標構(gòu)造圖。
7.一種構(gòu)造圖井校的裝置,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取待校正井的原始信息,其中所述原始信息包括:地震資料信息和測井信息;
處理模塊,用于根據(jù)所述測井信息進行處理,得到待校正井對應的多個分層;
標定模塊,用于根據(jù)所述地震資料信息進行標定,將所述目的層對應的分層標定于所述地震資料信息中,得到標定地震層位信息;
選取模塊,用于根據(jù)所述分層選取多個待鉆井點,并根據(jù)所述待鉆井點,通過移動最小二乘處理得到所述分層對應的平面誤差趨勢信息;
得到模塊,用于根據(jù)所述標定地震層位信息和所述平面誤差趨勢信息,得到所述待校正井對應的目標構(gòu)造圖。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,處理模塊,具體用于:
對所述測井信息進行去異常處理、井徑校正處理以及標準化處理,得到所述待校正井的沉積特征;
根據(jù)所述待校正井對應目的層的沉積特征,確定多個分層。
9.一種構(gòu)造圖井校的系統(tǒng),其特征在于,包括:存儲器和處理器,存儲器中存儲有所述處理器的可執(zhí)行指令;其中,所述處理器配置為經(jīng)由執(zhí)行所述可執(zhí)行指令來執(zhí)行權(quán)利要求1-6任一項所述的構(gòu)造圖井校的方法。
10.一種計算機可讀存儲介質(zhì),其上存儲有計算機程序,其特征在于,該程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)權(quán)利要求1-6任一項所述的構(gòu)造圖井校的方法。
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