[發明專利]一種基于輥筒靜電的顆粒狀化學原料靜電除塵裝置有效
| 申請號: | 202010000058.1 | 申請日: | 2020-01-01 |
| 公開(公告)號: | CN111014030B | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | 袁自蘭 | 申請(專利權)人: | 義烏市牛爾科技有限公司 |
| 主分類號: | B07B1/46 | 分類號: | B07B1/46;B07B1/22;B07B9/00;B03C7/02 |
| 代理公司: | 北京鼎德寶專利代理事務所(特殊普通合伙) 11823 | 代理人: | 李云霞 |
| 地址: | 322023 浙江省金華市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 靜電 顆粒狀 化學原料 除塵 裝置 | ||
1.一種基于輥筒靜電的顆粒狀化學原料靜電除塵裝置,包括裝置主體,所述裝置主體內設置有開口向上的顆粒狀化學原料流通腔,其特征在于:所述顆粒狀化學原料流通腔的右側內壁內相連通的設置有擺轉腔,所述擺轉腔的后側內壁內相連通的設置有扭力彈簧槽,所述擺轉腔內可轉動的設置有轉動環,所述轉動環上固定設置有轉動塊,所述轉動塊的軸心處固定設置有可在所述扭力彈簧槽內轉動的扭力彈簧連接軸,所述扭力彈簧連接軸與所述扭力彈簧槽的內壁之間固定連接有扭力彈簧,所述顆粒狀化學原料流通腔的左側內壁內相連通的設置第一除雜槽,所述第一除雜槽與所述顆粒狀化學原料流通腔之間相連通的設置有可供所述轉動塊擺轉的擺轉缺口,所述轉動塊的左端延伸通過所述擺轉缺口并延伸入所述第一除雜槽并固定設置有第一支撐塊,前后兩側的所述第一支撐塊之間且位于所述第一除雜槽內可滑動的設置有第一輥筒,所述第一輥筒的后端設置有與所述第一支撐塊轉動連接的轉動支撐塊,所述第一輥筒的左側端面與所述第一除雜槽的右側內壁齒輪嚙合連接,所述第一輥筒內設置有第一除雜腔,所述第一除雜腔內設置有開口向左第一進料口,所述第一除雜腔的上側內壁內設置有第一出塵口,所述第一除雜腔的下側及左側內壁內設置有第一集塵槽,所述第一集塵槽與所述第一出塵口之間相連通,所述第一除雜腔與所述第一集塵槽之間相連通的設置有第一連通槽,所述第一連通槽內固定設置有第一篩板,所述第一出塵口內可轉動的設置有蝸扇,所述蝸扇的軸心處固定設置有連接軸,所述連接軸的后端延伸出所述第一輥筒的后側端面外并固定設置有可在所述第一除雜槽內轉動的齒輪,所述第一除雜槽的左側內壁上固定設置有與所述齒輪嚙合連接的齒環,在所述第一輥筒在所述第一除雜槽內擺動時,通過所述齒環與所述齒輪的嚙合可帶動所述連接軸轉動,所述第一除雜槽的前側內壁內相連通的設置有第一弧形槽,所述第一輥筒的前側端面上固定設置有延伸入所述第一弧形槽內且可在所述第一弧形槽內滑動的固定管,所述固定管內前后貫穿設置有與所述第一出塵口相連通的通孔,所述第一除雜槽的下側內壁內相連通的設置有可用于收集成品顆粒狀化學原料的收集槽。
2.如權利要求1所述的一種基于輥筒靜電的顆粒狀化學原料靜電除塵裝置,其特征在于:所述顆粒狀化學原料流通腔的左側內壁內且位于所述第一除雜槽的下側設置有副除雜組件,所述副除雜組件包括相連通的設置于所述收集槽的下側內壁內的第二除雜槽,所述第二除雜槽的前后側內壁內分別設置有第一導滑槽,所述第一導滑槽內可滑動的設置有第二支撐塊,所述第二支撐塊的下側端面與所述第一導滑槽的下側內壁之間固定連接有彈性件,前后兩側的所述第二支撐塊之間且位于所述第二除雜槽內可滑動的設置有第二輥筒,所述第二輥筒與所述第二支撐塊轉動連接并且所述第二輥筒與所述第二除雜槽的右側內壁通過齒輪嚙合連接,所述第二輥筒內設置有第二除雜腔,所述第二除雜腔的右側內壁內設置有第二進料口,所述第二除雜腔的上側內壁內設置有第二出塵口,所述第二除雜腔的左側及下側內壁內設置有與所述第二出塵口相連通的第二集塵槽,所述第二集塵槽與所述第二除雜腔之間相連通的設置有第二連通槽,所述第二連通槽內固定設置有第二篩板,所述第二除雜槽的后側內壁內前后貫穿的設置有第二弧形槽,所述第二輥筒的后側端面上固定設置有第二導道,所述第二導道內前后貫穿的設置有與所述第二出塵口相連通的第二導孔,所述第二出塵口內同樣設置有與所述第一出塵口內的所述蝸扇、所述連接軸、所述齒環及所述齒輪相同的機械結構。
3.如權利要求2所述的一種基于輥筒靜電的顆粒狀化學原料靜電除塵裝置,其特征在于:所述顆粒狀化學原料流通腔內可滑動的設置有切換滑塊,所述切換滑塊內上下貫穿的設置有導向口,所述切換滑塊靠近左側端面的上側端面上固定設置有擋板,所述切換滑塊的下側端面與所述轉動塊之間可轉動的連接有連接擺桿,所述轉動塊逆時針擺動時可帶動所述切換滑塊下降,進而將所述第一除雜槽的右端開口與所述顆粒狀化學原料流通腔隔斷,進而使得進入所述顆粒狀化學原料流通腔內的顆粒狀化學原料進入到下側的所述副除雜組件上。
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