[發明專利]反射型的偏振光分離衍射元件以及具備該元件的光學測定裝置在審
| 申請號: | 201980103062.6 | 申請日: | 2019-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN114868046A | 公開(公告)日: | 2022-08-05 |
| 發明(設計)人: | 福田隆史;江本顯雄;成田貴人;早川廣志;三好有一 | 申請(專利權)人: | 日本分光株式會社;國立研究開發法人產業技術綜合研究所 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18;G01J4/00;G02B5/30 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 偏振光 分離 衍射 元件 以及 具備 光學 測定 裝置 | ||
1.一種反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,具備:
基板;
反射面,其形成于所述基板的表面;以及
光柵狀結構體,其設置在所述反射面上,呈現出結構性雙折射Δn*,
其中,所述光柵狀結構體由多個圖案的光柵狀結構體構成,所述多個圖案的光柵狀結構體具有各不相同的方位角的光柵狀結構,
這些多個圖案的光柵狀結構體以使所述光柵狀結構的方位角進行結構周期性的變化的方式在所述反射面上沿規定方向進行排列。
2.根據權利要求1所述的反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,
所述基板的表面沿著所述規定方向形成為臺階狀,
與該臺階狀的形狀相匹配地,所述多個圖案的光柵狀結構體也呈臺階狀地設置,
所述基板的表面的臺階狀的形狀與所述方位角的結構周期性的變化相匹配地重復。
3.根據權利要求1或2所述的反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,
在所述基板的兩方的表面形成有所述反射面和所述光柵狀結構體。
4.一種反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,具備:
基板;以及
光柵狀凹凸結構體,其形成于所述基板的表面,呈現出結構性雙折射Δn*,
其中,所述光柵狀凹凸結構體的凹凸面是反射面,
所述光柵狀凹凸結構體由多個圖案的光柵狀凹凸結構體構成,所述多個圖案的光柵狀凹凸結構體具有各不相同的方位角的光柵狀凹凸結構,
這些多個圖案的光柵狀凹凸結構體以使所述光柵狀凹凸結構的方位角進行結構周期性的變化的方式在所述基板的表面上沿規定方向進行排列。
5.根據權利要求4所述的反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,
所述基板的表面沿著所述規定方向形成為臺階狀,
與該臺階狀的形狀相匹配地,所述多個圖案的光柵狀凹凸結構體也形成為臺階狀,所述基板的表面的臺階狀的形狀與所述方位角的結構周期性的變化相匹配地重復。
6.根據權利要求4或5所述的反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,
在所述基板的兩方的表面形成有所述光柵狀凹凸結構體和所述反射面。
7.一種反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,具備:
基板;
反射面,其形成于所述基板的表面;以及
沿規定方向在所述反射面上進行排列的多個雙折射性結構體,
其中,各雙折射性結構體具有配置于1個段內的大量的雙折射性部位,多個所述雙折射性部位以使各個雙折射性部位的雙折射的光學軸的方向在平行于所述反射面的面內連續地變化至少180度的方式沿著所述規定方向進行排列。
8.根據權利要求7所述的反射型的偏振光分離衍射元件,其特征在于,
在所述基板的兩方的表面形成有所述雙折射性結構體和所述反射面。
9.一種光學測定裝置,其特征在于,具備:
根據權利要求1~8中的任一項所述的反射型的偏振光分離衍射元件;
入射光學單元,其使測定光朝向所述反射型的偏振光分離衍射元件入射;以及
檢測光學單元,其檢測被所述反射型的偏振光分離衍射元件衍射后的反射光中的至少一個以上的特定方向的光,
其中,所述光學測定裝置測定被放置在所述入射光學單元或所述檢測光學單元的光路上的被測定物的光學特性。
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