[發明專利]測距方法、測距裝置及計算機可讀存儲介質

有效

• 申請號: 201980101481.6
• 申請日: 2019-10-24
• 公開（公告）號: CN114556048B
• 公開（公告）日: 2023-09-26
• 發明（設計）人: 葉天翔;羅鵬飛;劉維輝;唐樣洋
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: G01S17/08
• 分類號: G01S17/08;H04N23/73;G01S7/02;H04N23/80
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 陳聰

1.一種測距方法，其特征在于，包括：

確定高頻曝光時間和低頻曝光時間；其中，在確定所述低頻曝光時間時，對低頻像素進行組合處理，并根據每個組合的像素數量確定所述低頻曝光時間；其中，所述低頻曝光時間和每個組合的像素數量呈反比；

根據所述高頻曝光時間進行高頻曝光以獲得高頻曝光圖像，以及根據所述低頻曝光時間進行低頻曝光以獲得低頻曝光圖像；

根據所述高頻曝光圖像和所述低頻曝光圖像計算測距裝置與目標對象之間的距離；

所述確定高頻曝光時間和低頻曝光時間，包括：

進行預設時間的預曝光以獲得預曝光圖像，并根據所述預曝光圖像在所述預設時間內接收到的參考信號強度分別確定所述高頻曝光時間和所述低頻曝光時間；

所述根據所述預曝光圖像在所述預設時間內接收到的信號強度，分別確定所述高頻曝光時間和所述低頻曝光時間，包括：

獲取所述預曝光圖像在所述預設時間內接收到的參考信號強度；

結合不同頻率的測量距離噪聲方差或標準差與接收到的信號強度關系曲線來確定高頻目標信號強度和低頻目標信號強度；

根據所述參考信號強度、所述高頻目標信號強度以及所述預設時間計算所述高頻曝光時間；以及，根據所述參考信號強度、所述低頻目標信號強度、每個組合的像素數量以及所述預設時間計算所述低頻曝光時間；其中，所述低頻曝光時間和每個組合的像素數量呈反比。

2.如權利要求1所述的測距方法，其特征在于，所述參考信號強度為所述預曝光圖像的所有像素的平均信號強度；或者，所述參考信號強度為所述預曝光圖像的特征像素的平均信號強度；其中，所述特征像素表征所述預曝光圖像的特征區域所對應的像素。

3.如權利要求1-2任一項所述的測距方法，其特征在于，所述根據所述高頻曝光圖像和所述低頻曝光圖像計算測距裝置與目標對象之間的距離，包括：

計算所述高頻曝光圖像中的每個像素的高頻相位延遲信息，以及計算所述低頻曝光圖像中組合后的每個像素的低頻相位延遲信息；

對所述低頻曝光圖像中組合后的每個像素的低頻相位延遲信息進行上采樣以得到與所述高頻曝光圖像分辨率相同的低頻曝光圖像；

根據每個像素的高頻相位延遲信息和每個像素的低頻相位延遲信息計算得出每個像素的高頻解纏系數；

根據每個像素的高頻解纏系數和每個像素的高頻相位延遲信息計算每個像素與該像素曝光時所拍攝對象之間的距離。

4.如權利要求1所述的測距方法，其特征在于，在進行低頻曝光時，使用連續波調制模式或者脈沖波調制模式。

5.如權利要求1所述的測距方法，其特征在于，在進行高頻曝光或者低頻曝光時，相鄰的像素進行不同相位的曝光。

6.一種測距裝置，其特征在于，包括：

確定模塊，用于確定高頻曝光時間和低頻曝光時間，在確定所述低頻曝光時間時對低頻像素進行組合處理，并根據每個組合的像素數量確定所述低頻曝光時間；其中，所述低頻曝光時間和每個組合的像素數量呈反比；

曝光模塊，用于根據所述高頻曝光時間進行高頻曝光以獲得高頻曝光圖像，以及根據所述低頻曝光時間進行低頻曝光以獲得低頻曝光圖像；以及

計算模塊，用于根據所述高頻曝光圖像和所述低頻曝光圖像計算測距裝置與目標對象之間的距離；

所述確定模塊具體用于根據預設時間進行預曝光以獲得預曝光圖像，并根據所述預曝光圖像的每個像素在所述預設時間內接收到的參考信號強度分別確定所述高頻曝光時間和所述低頻曝光時間；

所述確定模塊包括：

獲取單元，用于獲取所述預曝光圖像在所述預設時間接收到的參考信號強度；以及

確定單元，用于結合不同頻率的測量距離噪聲方差或標準差與接收到的信號強度關系曲線來確定高頻目標信號強度和低頻目標信號強度；

所述確定單元還用于根據所述參考信號強度、所述高頻目標信號強度以及所述預設時間計算所述高頻曝光時間；以及，根據所述參考信號強度、所述低頻目標信號強度、所確定的組合數以及所述預設時間計算所述低頻曝光時間；其中，所述低頻曝光時間和每個組合的像素數量呈反比。