[發明專利]基于偏振光束的激光生成系統和方法在審
| 申請號： | 201980100437.3 | 申請日： | 2019-10-16 |
| 公開（公告）號： | CN114502974A | 公開（公告）日： | 2022-05-13 |
| 發明（設計）人： | 郭永洪;王佑民;王超;呂越;孔令凱 | 申請（專利權）人： | 北京航跡科技有限公司 |
| 主分類號： | G01S7/481 | 分類號： | G01S7/481;G02B27/10;G02B27/28;H01S3/10 |
| 代理公司： | 北京睿派知識產權代理事務所(普通合伙) 11597 | 代理人： | 劉鋒 |
| 地址： | 100193 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 偏振 光束 激光 生成 系統 方法 | ||
1.一種激光束生成系統，包括：
第一激光芯片，所述第一激光芯片被配置為生成第一偏振激光束；
第二激光芯片，所述第二激光芯片被配置為生成第二偏振激光束；以及
偏光器，所述偏光器被配置為將所述第一偏振激光束和所述第二偏振激光束組合以生成第三激光束。
2.根據權利要求1所述的激光束生成系統，其中：
所述第一偏振激光束包括處于第一偏振態的激光；
所述第二偏振激光束包括處于第二偏振態的激光；以及
所述偏光器被配置為透射處于所述第一偏振態的激光以及反射處于所述第二偏振態的激光。
3.根據權利要求1所述的激光束生成系統，其中：
所述第一偏振激光束包括處于第一偏振態的激光；
所述第二偏振激光束包括處于第二偏振態的激光；
所述激光束生成系統包括波片，所述波片被配置為將所述第二偏振激光束中的激光從所述第二偏振態改變為第三偏振態；以及
所述偏光器被配置為透射處于所述第一偏振態的激光以及反射處于所述第三偏振態的激光。
4.根據權利要求1所述的激光束生成系統，其中，所述第三激光束的強度基本上等于所述第一偏振激光束與所述第二偏振激光束的強度之和。
5.根據權利要求1所述的激光束生成系統，其中，所述第一激光芯片和所述第二激光芯片被配置為分別同時生成所述第一偏振激光束和所述第二偏振激光束。
6.根據權利要求1所述的激光束生成系統，其中，所述第三激光束的強度基本上等于所述第一偏振激光束與所述第二偏振激光束的強度的平均值。
7.根據權利要求1所述的激光束生成系統，其中，所述第一激光芯片和所述第二激光芯片被配置為分別在不同時隙中生成所述第一偏振激光束和所述第二偏振激光束。
8.根據權利要求1所述的激光束生成系統，包括至少一個準直透鏡，所述至少一個準直透鏡被配置為將所述第一偏振激光束或所述第二偏振激光束平行化。
9.根據權利要求1所述的激光束生成系統，包括印刷電路板(PCB)，其中，所述第一激光芯片或所述第二激光芯片中的至少一個被設置在所述PCB上。
10.根據權利要求9所述的激光束生成系統，其中，所述PCB包括陶瓷材料。
11.一種用于控制激光生成的方法，包括：
由第一激光芯片生成第一偏振激光束；
由第二激光芯片生成第二偏振激光束；以及
使用偏光器將所述第一偏振激光束和所述第二偏振激光束組合以生成第三激光束。
12.根據權利要求11所述的方法，其中：
所述第一偏振激光束包括處于第一偏振態的激光；
所述第二偏振激光束包括處于第二偏振態的激光；以及
所述方法包括以下步驟：
由所述偏光器透射處于所述第一偏振態的激光；以及
由所述偏光器反射處于所述第二偏振態的激光。
13.根據權利要求11所述的方法，其中：
所述第一偏振激光束包括處于第一偏振態的激光；
所述第二偏振激光束包括處于第二偏振態的激光；以及
所述方法包括以下步驟：
由波片將所述第二偏振激光束中的激光從所述第二偏振態改變為第三偏振態；
由所述偏光器透射處于所述第一偏振態的激光；以及
由所述偏光器反射處于所述第三偏振態的激光。
14.根據權利要求11所述的方法，其中，所述第三激光束的強度基本上等于所述第一偏振激光束與所述第二偏振激光束的強度之和。
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