[發(fā)明專利]激光裝置、激光加工系統(tǒng)和電子器件的制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980097927.2
• 申請日: 2019-08-30
• 公開（公告）號: CN114072976A
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鈴木章義;五十嵐裕紀(jì)
• 申請（專利權(quán)）人: 極光先進(jìn)雷射株式會社
• 主分類號: H01S3/0941
• 分類號: H01S3/0941
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 于英慧;崔成哲

本公開的一個觀點(diǎn)的激光裝置具有：多個半導(dǎo)體激光器；多個光開關(guān)，它們被配置在多個半導(dǎo)體激光器各自的光路上；波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)，其對從多個光開關(guān)輸出的脈沖光進(jìn)行波長轉(zhuǎn)換，而生成波長轉(zhuǎn)換光；ArF準(zhǔn)分子激光放大器，其對波長轉(zhuǎn)換光進(jìn)行放大；以及控制器，其對多個半導(dǎo)體激光器和多個光開關(guān)的動作進(jìn)行控制，多個半導(dǎo)體激光器分別輸出使波長轉(zhuǎn)換光的波長成為基于ArF準(zhǔn)分子放大器的放大波長、且與氧對光的吸收線不同的波長的激光。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及激光裝置、激光加工系統(tǒng)和電子器件的制造方法。

背景技術(shù)

近年來，在半導(dǎo)體曝光裝置中，隨著半導(dǎo)體集成電路的微細(xì)化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，從曝光用光源放出的光的短波長化得以發(fā)展。例如，作為曝光用的氣體激光裝置，使用輸出波長大約為248nm的激光的KrF準(zhǔn)分子激光裝置、以及輸出波長大約為193nm的激光的ArF準(zhǔn)分子激光裝置。

KrF準(zhǔn)分子激光裝置和ArF準(zhǔn)分子激光裝置的自然振蕩光的譜線寬度較寬，為350～400pm。因此，在利用使KrF和ArF激光這種紫外線透過的材料構(gòu)成投影透鏡時，有時產(chǎn)生色差。其結(jié)果，分辨率可能降低。因此，需要將從氣體激光裝置輸出的激光的譜線寬度窄帶化到能夠無視色差的程度。因此，在氣體激光裝置的激光諧振器內(nèi)，有時具有包含窄帶化元件(標(biāo)準(zhǔn)具、光柵等)的窄帶化模塊(Line Narrow Module：LNM)，以使譜線寬度窄帶化。下面，將譜線寬度被窄帶化的氣體激光裝置稱為窄帶化氣體激光裝置。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：美國專利申請公開第2010/0220756號說明書

專利文獻(xiàn)2：日本特開2003-163393號公報

專利文獻(xiàn)3：國際公開第2018/100638號

發(fā)明內(nèi)容

本公開的1個觀點(diǎn)的激光裝置具有：多個半導(dǎo)體激光器；多個光開關(guān)，它們被配置在多個半導(dǎo)體激光器各自的光路上；波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)，其對從多個光開關(guān)輸出的脈沖光進(jìn)行波長轉(zhuǎn)換，而生成波長轉(zhuǎn)換光；ArF準(zhǔn)分子激光放大器，其對從波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)輸出的波長轉(zhuǎn)換光進(jìn)行放大；以及控制器，其對多個半導(dǎo)體激光器和多個光開關(guān)的動作進(jìn)行控制，其中，多個半導(dǎo)體激光器分別構(gòu)成為，輸出使從波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)輸出的波長轉(zhuǎn)換光的波長為ArF準(zhǔn)分子激光放大器的放大波長的激光，從多個半導(dǎo)體激光器分別輸出的激光的波長彼此不同，多個半導(dǎo)體激光器分別輸出使波長轉(zhuǎn)換光的波長成為與氧對光的吸收線不同的波長的激光。

本公開的另1個觀點(diǎn)的電子器件的制造方法包含以下步驟：使用激光裝置生成準(zhǔn)分子激光，將準(zhǔn)分子激光輸出到加工裝置，在加工裝置中對被照射物照射準(zhǔn)分子激光，以制造電子器件，激光裝置具有：多個半導(dǎo)體激光器；多個光開關(guān)，它們被配置在多個半導(dǎo)體激光器各自的光路上；波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)，其對從多個光開關(guān)輸出的脈沖光進(jìn)行波長轉(zhuǎn)換，而生成波長轉(zhuǎn)換光；ArF準(zhǔn)分子激光放大器，其對從波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)輸出的波長轉(zhuǎn)換光進(jìn)行放大；以及控制器，其對多個半導(dǎo)體激光器和多個光開關(guān)的動作進(jìn)行控制，多個半導(dǎo)體激光器分別構(gòu)成為，輸出使從波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)輸出的波長轉(zhuǎn)換光的波長為ArF準(zhǔn)分子激光放大器的放大波長的激光，從多個半導(dǎo)體激光器分別輸出的激光的波長彼此不同，多個半導(dǎo)體激光器分別輸出使通過波長轉(zhuǎn)換而生成的波長轉(zhuǎn)換光的波長成為與氧對光的吸收線不同的波長的激光。

附圖說明

下面，參照附圖將本公開的若干個實(shí)施方式作為簡單例子進(jìn)行說明。

圖1概略地示出比較例的激光加工系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。

圖2是示出ArF準(zhǔn)分子激光的自然振蕩(Free Running)的譜波形的曲線圖。

圖3概略地示出實(shí)施方式1的激光裝置的結(jié)構(gòu)。

圖4是示出從波長轉(zhuǎn)換系統(tǒng)輸出的多線的脈沖激光的譜的例子的曲線圖。