[發明專利]超臨界流體裝置及超臨界流體裝置的壓力控制方法

在審

• 申請號: 201980096903.5
• 申請日: 2019-06-11
• 公開（公告）號: CN113906363A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 尾和道晃
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G05D16/20
• 分類號: G05D16/20;G01N30/02
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 薛恒;王琳

1.一種超臨界流體裝置，其特征在于，包括：

溶劑供給部，供給溶劑；

壓力控制裝置，設置于由所述溶劑供給部供給的溶劑的流路；以及

控制部，對所述壓力控制裝置進行控制，

所述控制部包括：

第一控制部，通過對所述壓力控制裝置進行控制，使所述流路的壓力上升而使所述溶劑為超臨界流體的狀態從而維持規定處理的執行環境；以及

第二控制部，在結束所述規定處理的執行環境時，設定所述流路的壓力的中間目標值，朝向所述中間目標值對所述流路的壓力進行控制。

2.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，所述第二控制部在朝向所述中間目標值對所述流路的壓力進行控制之后，設定比所述中間目標值低的新的中間目標值，朝向所述新的中間目標值對所述流路的壓力進行控制。

3.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，若將所述規定處理的執行環境下的所述流路的壓力設為設定壓力(P)，將從開始對所述流路的減壓起的時間設為經過時間(T1)，及將完成所述流路的減壓為止的設定時間設為減壓設定時間(T2)，則所述中間目標值通過

減壓速度(V)＝設定壓力(P)/減壓設定時間(T2)

中間目標值＝設定壓力(P)-(減壓速度(V)×經過時間(T1))

算出。

4.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，朝向所述中間目標值降低的壓力的減少率比不設置所述中間目標值而降低壓力時的壓力的減少率緩慢。

5.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，以作為所述規定處理的執行環境下的所述流路的壓力減半為止的時間至少經過10秒以上的方式設定所述中間目標值。

6.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，以作為所述規定處理的執行環境下的所述流路的壓力減半為止的時間至少經過1分鐘以上的方式設定所述中間目標值。

7.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，所述超臨界流體裝置包括超臨界流體色譜儀。

8.根據權利要求1所述的超臨界流體裝置，其特征在于，所述超臨界流體裝置包括執行超臨界流體提取的裝置。

9.一種超臨界流體裝置的壓力控制方法，其特征在于，包括以下處理：

通過對設置于由溶劑供給部供給的溶劑的流路的壓力控制裝置進行控制，使所述流路的壓力上升而使所述溶劑為超臨界流體的狀態從而維持規定處理的執行環境；以及

在結束所述規定處理的執行環境時，設定所述流路的壓力的中間目標值，朝向所述中間目標值對所述流路的壓力進行控制。