[發(fā)明專利]離子抑制器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980094616.0 | 申請日: | 2019-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN113631918B | 公開(公告)日: | 2023-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 坂本勝正;藤原理悟 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | G01N30/02 | 分類號: | G01N30/02;G01N30/88 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 薛恒;徐川 |
| 地址: | 日本京都府京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 離子 抑制器 | ||
1.一種離子抑制器,其在來自離子色譜儀的分離柱的洗脫液與電極液之間進(jìn)行離子交換,包括:
第一電極及第二電極;
第一電極液密封構(gòu)件及第二電極液密封構(gòu)件,配置在所述第一電極與所述第二電極之間;
第一離子交換膜及第二離子交換膜,配置在所述第一電極液密封構(gòu)件與所述第二電極液密封構(gòu)件之間;以及
洗脫液密封構(gòu)件,配置在所述第一離子交換膜與所述第二離子交換膜之間,具有用于使洗脫液經(jīng)過的洗脫液流路,且
所述第一電極液密封構(gòu)件具有用于使電極液經(jīng)過的第一電極液流路,
所述第二電極液密封構(gòu)件具有用于使電極液經(jīng)過的第二電極液流路,
在所述第一電極液密封構(gòu)件的所述第一電極液流路內(nèi)層疊電荷量不同的多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件,
所述多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件分別由包含多個(gè)第一線材的第一線材群組、以及包含與所述第一線材群組交叉的多個(gè)第二線材的第二線材群組構(gòu)成,
所述多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件的多個(gè)第一線材群組分別沿不同的方向延伸,所述多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件的多個(gè)第二線材群組分別沿不同的方向延伸且沿與所述多個(gè)第一線材群組不同的方向延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子抑制器,其中所述多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件的所述多個(gè)第一線材群組以5度以上且85度以下的角度相互交叉,
所述多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件的所述多個(gè)第二線材群組以5度以上且85度以下的角度相互交叉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子抑制器,其中所述多個(gè)第一網(wǎng)孔構(gòu)件以越是電荷量小的第一網(wǎng)孔構(gòu)件越配置在靠近所述洗脫液流路的位置的狀態(tài)層疊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子抑制器,其中在所述第二電極液密封構(gòu)件的所述第二電極液流路內(nèi)層疊電荷量不同的多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件,
所述多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件分別由包含多個(gè)第三線材的第三線材群組、以及包含與所述第三線材群組交叉的多個(gè)第四線材的第四線材群組構(gòu)成,
所述多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件的多個(gè)第三線材群組分別沿不同的方向延伸,所述多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件的多個(gè)第四線材群組分別沿不同的方向延伸且沿與所述多個(gè)第三線材群組不同的方向延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子抑制器,其中所述多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件的所述多個(gè)第三線材群組以5度以上且85度以下的角度相互交叉,
所述多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件的所述多個(gè)第四線材群組以5度以上且85度以下的角度相互交叉。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子抑制器,其中所述多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件以越是電荷量小的第二網(wǎng)孔構(gòu)件越配置在靠近所述洗脫液流路的位置的狀態(tài)層疊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子抑制器,其中所述第一電極是施加正電壓的陽極,
所述第二電極是施加負(fù)電壓的陰極,
在所述第二電極液密封構(gòu)件的所述第二電極液流路內(nèi)配置或?qū)盈B一個(gè)或多個(gè)第二網(wǎng)孔構(gòu)件,
層疊在所述第一電極液流路內(nèi)的第一網(wǎng)孔構(gòu)件的數(shù)量比配置或?qū)盈B在所述第二電極液流路內(nèi)的第二網(wǎng)孔構(gòu)件的數(shù)量多。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社島津制作所,未經(jīng)株式會社島津制作所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980094616.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





