[發(fā)明專利]包含光活性基團(tuán)的能交聯(lián)的電活性氟化聚合物

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980091709.8
• 申請(qǐng)日: 2019-12-16
• 公開（公告）號(hào): CN113423740A
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: G.哈德齊奧安諾;E.克勞泰特;C.布羅瓊;K.卡利特西斯;F.多明格斯多斯桑托斯;T.索萊斯丁
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 阿科瑪法國(guó)公司;波爾多大學(xué);波爾多理工學(xué)院;國(guó)家科學(xué)研究中心
• 主分類號(hào): C08F8/00
• 分類號(hào): C08F8/00;H01L41/193;H01L41/317;C08J5/22
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邢岳;宋莉

1.共聚物，其包含衍生自式(I)的含氟單體的單元：

(I)CX₁X₂＝CX₃X₄

其中X₁、X₂、X₃和X₄各自獨(dú)立地選自H、F和任選地被部分或者完全氟化的包含1-3個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)，在所述共聚物中，所述含氟單體的H和/或F原子部分地被式-Y-Ar-R的光活性基團(tuán)替代；Y表示O原子或S原子或NH基團(tuán)，Ar表示芳基基團(tuán)、優(yōu)選地苯基基團(tuán)，并且R為包含1-30個(gè)碳原子的單齒或雙齒基團(tuán)；

所述共聚物的式(I)的含氟單體包含偏氟乙烯和三氟乙烯。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的共聚物，其中式(I)的含氟單體由偏氟乙烯和三氟乙烯構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的共聚物，其包含得自偏氟乙烯單體的單元和衍生自三氟乙烯單體的單元這兩者，相對(duì)于衍生自偏氟乙烯和三氟乙烯單體的單元之和，衍生自三氟乙烯單體的單元的比例優(yōu)選為15-55摩爾％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3之一的共聚物，其中基團(tuán)Ar被基團(tuán)R在相對(duì)于Y的鄰位、和/或在相對(duì)于Y的間位、和/或在相對(duì)于Y的對(duì)位取代。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4之一的共聚物，其中基團(tuán)R包含羰基官能團(tuán)并且優(yōu)選地選自乙酰基基團(tuán)、取代或未取代的苯甲酰基基團(tuán)、取代或未取代的苯乙酰基基團(tuán)、鄰苯二甲酰基基團(tuán)、和膦氧化物酰基基團(tuán)；所述膦被選自甲基基團(tuán)、乙基基團(tuán)和苯基基團(tuán)的一個(gè)或多個(gè)基團(tuán)取代。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的共聚物，其中，基團(tuán)Ar為在間位被取代的苯基并且基團(tuán)R為未取代的苯甲酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在對(duì)位被取代的苯基并且基團(tuán)R為未取代的苯甲酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在對(duì)位被取代的苯基并且基團(tuán)R為在對(duì)位被羥基基團(tuán)取代的苯甲酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在間位被取代的苯基并且基團(tuán)R為乙酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在對(duì)位被取代的苯基并且基團(tuán)R為乙酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在鄰位被取代的苯基并且基團(tuán)R為在相對(duì)于羰基基團(tuán)的α位被羥基基團(tuán)取代的苯乙酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在間位被取代的苯基并且基團(tuán)R為在相對(duì)于羰基基團(tuán)的α位被羥基基團(tuán)取代的苯乙酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在鄰位被取代的苯基并且基團(tuán)R為膦氧化物酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在間位被取代的苯基并且基團(tuán)R為膦氧化物酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在對(duì)位被取代的苯基并且基團(tuán)R為膦氧化物酰基基團(tuán)，或者，基團(tuán)Ar為在鄰位和間位被取代的苯基并且基團(tuán)R為鄰苯二甲酰基基團(tuán)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6之一的共聚物，其中所述共聚物中的式(I)的含氟單體的被式-Y-Ar-R的光活性基團(tuán)替代的H和F原子的摩爾比例為0.1％-20％、優(yōu)選地1％-10％和更優(yōu)選地2％-8％。

8.用于制備根據(jù)權(quán)利要求1-7之一的共聚物的工藝，其包括：

-提供起始共聚物，所述起始共聚物包含衍生自下式(I)的含氟單體的單元：

CX₁X₂＝CX₃X₄，其中X₁、X₂、X₃和X₄各自獨(dú)立地選自H、F和任選地被部分或者完全氟化的包含1-3個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)；

式(I)的含氟單體包含偏氟乙烯和三氟乙烯；

-使起始共聚物與光活性分子接觸，光活性分子具有式HY-Ar-R，其中Y表示O原子或S原子或NH基團(tuán)，Ar表示芳基基團(tuán)、優(yōu)選地苯基基團(tuán)，并且R為包含1-30個(gè)碳原子的單齒或雙齒基團(tuán)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的工藝，其中所述接觸在溶劑中進(jìn)行，所述溶劑優(yōu)選地選自：二甲亞砜；二甲基甲酰胺；二甲基乙酰胺；酮類，尤其是丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮和環(huán)戊酮；呋喃類、尤其是四氫呋喃；酯類，尤其是乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯和丙二醇甲基醚乙酸酯；碳酸酯類，尤其是碳酸二甲酯；和磷酸酯類，尤其是磷酸三乙酯。