[發(fā)明專利]包含發(fā)光苯并噻唑的發(fā)光材料、包括安全特征的制品以及形成包含發(fā)光苯并噻唑的發(fā)光顆粒的方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980090138.6
• 申請(qǐng)日: 2019-11-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113330093A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: T·波特拉瓦;M·凱斯勒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 霍尼韋爾國(guó)際公司
• 主分類號(hào): C09K11/02
• 分類號(hào): C09K11/02;C09K11/06
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種發(fā)光材料，包含：

介質(zhì)；以及

包含具有脲基鍵的發(fā)光苯并噻唑的發(fā)光顆粒；

其中所述發(fā)光苯并噻唑響應(yīng)約366nm波長(zhǎng)的電磁輻射的激發(fā)而具有約555nm至約630nm波長(zhǎng)內(nèi)的峰強(qiáng)度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光材料，其中所述脲基鍵接合所述發(fā)光苯并噻唑中的含苯并噻唑基的基團(tuán)和任選的鹵代苯基基團(tuán)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光材料，其中所述含苯并噻唑基的基團(tuán)是苯基苯并噻唑基基團(tuán)，并且其中所述脲基鍵將所述苯基苯并噻唑基基團(tuán)接合到所述發(fā)光苯并噻唑中的所述任選的鹵代苯基基團(tuán)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光材料，其中所述苯基苯并噻唑基基團(tuán)不含羥基側(cè)基。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光材料，其中所述發(fā)光苯并噻唑具有以下結(jié)構(gòu)：

其中R₁為H、鹵素自由基、烷基基團(tuán)、酯基團(tuán)、醚基團(tuán)、芳族基團(tuán)或烷氧基基團(tuán)；R₂為H、鹵素自由基、烷基基團(tuán)、酯基基團(tuán)、醚基基團(tuán)、芳族基團(tuán)或烷氧基基團(tuán)，其中R₁和R₂可表示用以形成多環(huán)芳族基團(tuán)的芳族基團(tuán)與苯基基團(tuán)的鍵；并且R₃為H、鹵素自由基或烷基基團(tuán)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)光材料，其中R₁為H、鹵素自由基、烷基基團(tuán)、酯基團(tuán)、醚基團(tuán)、芳族基團(tuán)或烷氧基基團(tuán)；R₂為H；并且R₃為H。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光材料，其中所述發(fā)光苯并噻唑響應(yīng)約366nm波長(zhǎng)的電磁輻射的激發(fā)而具有約558nm至約589nm波長(zhǎng)內(nèi)的峰強(qiáng)度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光材料，其中基于所述發(fā)光顆粒的總重量計(jì)，所述發(fā)光顆粒包含至少99重量％的量的所述發(fā)光苯并噻唑。

9.一種制品，包括：

基板；以及

認(rèn)證特征，所述認(rèn)證特征位于所述基板中和/或所述基板上，其中所述認(rèn)證特征包括發(fā)光顆粒，其中所述發(fā)光顆粒包含具有脲基鍵的發(fā)光苯并噻唑，并且其中所述發(fā)光苯并噻唑響應(yīng)于用約366nm波長(zhǎng)的電磁輻射激發(fā)而具有約555nm至約630nm波長(zhǎng)內(nèi)的峰強(qiáng)度。

10.一種形成發(fā)光顆粒的方法，其中所述方法包括：

將包含氨基官能苯并噻唑反應(yīng)物和有機(jī)溶劑的混合物加熱至大于約60℃的溫度；

在加熱至大于約60℃的溫度后，將含異氰酸酯化合物添加至所述混合物中以形成反應(yīng)混合物；

將所述反應(yīng)混合物在大于約60℃的溫度處保持一段反應(yīng)期以形成包含具有脲基鍵的發(fā)光苯并噻唑的發(fā)光顆粒。