[發明專利]研磨劑的再生方法以及研磨劑回收處理系統

有效

• 申請號: 201980088075.0
• 申請日: 2019-12-24
• 公開（公告）號: CN113365781B
• 公開（公告）日: 2023-07-18
• 發明（設計）人: 溝口啟介;薛婧;月形扶美子;前澤明弘
• 申請（專利權）人: 柯尼卡美能達株式會社
• 主分類號: B24B57/00
• 分類號: B24B57/00;C09G1/02;C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張濤

本發明的課題是，提供一種研磨劑的再生方法以及研磨劑回收處理系統，其可以從化學強化玻璃的研磨中使用的加工后的研磨劑漿料中有效地除去含有Ksubgt;2/subgt;O的玻璃成分，并有效地分離被研磨物、提高研磨速度穩定性和防止研磨物劃痕等導致的品質降低。本發明的研磨劑的再生方法是從研磨劑漿料中，除去被研磨物的構成成分，對研磨劑進行回收、再生的研磨劑的再生方法，其至少依次包括：研磨加工工序、研磨劑漿料供給工序、研磨劑漿料回收工序、沉降分離濃縮工序，其中，向所述研磨劑漿料供給工序中的Ksubgt;2/subgt;O濃度在0.05～1.0質量％的范圍內的研磨劑漿料，在所述研磨劑漿料回收工序或所述沉降分離濃縮工序中，添加水稀釋至5～50倍。

技術領域

本發明涉及研磨劑的再生方法以及研磨劑回收處理系統，更詳細而言，涉及從用于化學強化玻璃的研磨、加工后的研磨劑漿料中有效地除去含有K₂O的玻璃成分、被研磨物的有效地分離、提高研磨速度的穩定性和防止研磨物劃痕等導致的品質降低研磨劑的再生方法以及研磨劑回收處理系統。

背景技術

目前，在制造光學玻璃或水晶發振子時，作為在收尾工序中進行精密研磨的研磨劑(也稱為研磨材)，以往一般使用，以金剛石、氮化硼、碳化硅、氧化鋁、氧化鋁-氧化鋯、氧化鋯、氧化鈰等為代表的具有高硬度的微粒。

這些研磨劑，由于是硬度高的微粒，且是作為光學鏡片、半導體硅基板以及液晶屏幕的玻璃板等的電子部件關聯的光學研磨劑而大量使用的重要的資源，因此，是強烈需要再利用的資源的一種。另外，由于光學研磨用的研磨劑含有稀土類元素的微粒情況較多，對于資源的再利用化或無公害化的技術對應也正成為重要問題。

另外，這些研磨劑，通常，在研磨工序中大量使用時，其廢液中會同時存在被研磨物的構成成分，例如，光學玻璃屑等，通常，由于難以有效地分離研磨劑和被研磨物，如同所述，現狀是研磨劑廢液在多數的情況下會在使用后被廢棄，在環境負荷方面、資源的有效利用方面或廢棄成本方面也存在問題。

另一方面，近年中，隨著智能手機的急速的普及，智能手機用的顯示器玻璃的生產量也在大幅增加。另外，近年來，智能手機大屏化的傾向很強，使用的顯示器玻璃(玻璃蓋)的面積也在變大。

然而，如果由于大屏化，智能手機自身也大型化時，存在會失去本來的攜帶性、操作性等部分的問題。另一方面，由于智能手機用的顯示器玻璃容易因落下時的沖擊而產生裂紋，多數的情況下，使用化學強化玻璃。

因此，近年，為了在保持智能手機自身的緊湊性的同時實現大屏化，對端面進行曲面加工以使得連屏幕的邊界都能作為表示屏幕而使用的，被稱為3D玻璃的玻璃正在被開發。由于該3D玻璃與以往相比，平均面積的研磨量增大，研磨使用的研磨劑的再生的需求正在不斷增大。

然而，隨著研磨量的增加，循環使用的研磨劑漿料中的玻璃成分量也有增加的傾向，如果研磨劑再生次數增加，回收研磨劑漿料的品質也會降低。

對于所述問題，從含有氧化鈰的研磨劑在使用后研磨劑漿料中，將進行了研磨的研磨劑成分，使用鎂鹽等進行分離的，研磨劑成分的再生方法已經被公開了(例如，參照專利文獻1)。

然而，在最近的研磨方法中，隨著研磨量的增加，循環使用的研磨劑漿料中的，研磨所產生的玻璃研磨屑(以下，單稱為研磨屑。)的量也有增加的傾向，在對于智能手機用的顯示器玻璃研磨方法中，研磨劑再生次數增加時，會出現使用專利文獻1公開的研磨劑成分的再生方法制備的回收研磨劑漿料中，無法有效地分離玻璃等的研磨屑和研磨劑的情況。