[發(fā)明專(zhuān)利]圖像預(yù)測(cè)方法、編碼器、解碼器以及存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980087536.2
• 申請(qǐng)日: 2019-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113302934B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 霍俊彥;馬彥卓;萬(wàn)帥;楊付正;李新偉;王海鑫
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H04N19/50
• 分類(lèi)號(hào): H04N19/50
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 馬麗;張穎玲

1.一種圖像預(yù)測(cè)方法，應(yīng)用于編碼器或解碼器，所述方法包括：

確定當(dāng)前塊的基于矩陣的幀內(nèi)預(yù)測(cè)模式MIP輸入采樣矩陣；

根據(jù)所述MIP輸入采樣矩陣，計(jì)算所述當(dāng)前塊的MIP預(yù)測(cè)塊，其中，所述MIP預(yù)測(cè)塊包含所述當(dāng)前塊中部分像素位置的預(yù)測(cè)采樣值；

根據(jù)所述當(dāng)前塊的參數(shù)，對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行第一濾波處理，得到第一濾波預(yù)測(cè)塊，其中，所述第一濾波處理包括第一上采樣處理，所述第一上采樣處理表示對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行水平方向上采樣后再進(jìn)行垂直方向上采樣得到第一上采樣塊，對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行垂直方向上采樣后再進(jìn)行水平方向上采樣得到第二上采樣塊，將所述第一上采樣塊和所述第二上采樣塊的加權(quán)均值作為所述第一濾波預(yù)測(cè)塊；

將所述第一濾波預(yù)測(cè)塊設(shè)置為所述當(dāng)前塊的幀內(nèi)預(yù)測(cè)塊；其中，所述幀內(nèi)預(yù)測(cè)塊包含所述當(dāng)前塊中全部像素位置的預(yù)測(cè)采樣值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述根據(jù)所述當(dāng)前塊的參數(shù)，對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行第一濾波處理，得到第一濾波預(yù)測(cè)塊，包括：

當(dāng)所述當(dāng)前塊的寬度和高度均大于所述MIP預(yù)測(cè)塊的寬度和高度時(shí)，對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行所述第一濾波處理，得到所述第一濾波預(yù)測(cè)塊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述方法還包括：

所述當(dāng)前塊的寬度和高度相等。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述根據(jù)所述當(dāng)前塊的參數(shù)，對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行第一濾波處理，得到第一濾波預(yù)測(cè)塊，包括：

根據(jù)所述當(dāng)前塊的尺寸和所述MIP預(yù)測(cè)塊的尺寸，設(shè)置所述第一濾波處理；

根據(jù)所設(shè)置的第一濾波處理，得到所述第一濾波預(yù)測(cè)塊；其中，所述第一濾波處理還包括下述一個(gè)或多個(gè)：第二上采樣處理、第三上采樣處理、第四上采樣處理和第五上采樣處理；

所述第二上采樣處理表示對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行水平方向上采樣處理得到所述第一濾波預(yù)測(cè)塊；

所述第三上采樣處理表示對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行垂直方向上采樣處理得到所述第一濾波預(yù)測(cè)塊；

所述第四上采樣處理表示對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行水平方向上采樣后再進(jìn)行垂直方向上采樣得到所述第一濾波預(yù)測(cè)塊；

所述第五上采樣處理表示對(duì)所述MIP預(yù)測(cè)塊進(jìn)行垂直方向上采樣后再進(jìn)行水平方向上采樣得到所述第一濾波預(yù)測(cè)塊。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述根據(jù)所述當(dāng)前塊的尺寸和所述MIP預(yù)測(cè)塊的尺寸，設(shè)置所述第一濾波處理，包括：

當(dāng)所述當(dāng)前塊的高度和寬度均大于所述MIP預(yù)測(cè)塊的高度和寬度時(shí)，將所述第一濾波處理設(shè)置為所述第一上采樣處理。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述方法還包括：

所述當(dāng)前塊的寬度和高度相等。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述根據(jù)所述當(dāng)前塊的尺寸和所述MIP預(yù)測(cè)塊的尺寸，設(shè)置所述第一濾波處理，包括：

當(dāng)所述當(dāng)前塊的高度與所述MIP預(yù)測(cè)塊的高度相等、所述當(dāng)前塊的寬度大于所述MIP預(yù)測(cè)塊的寬度時(shí)，將所述第一濾波處理設(shè)置為所述第二上采樣處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述根據(jù)所述當(dāng)前塊的尺寸和所述MIP預(yù)測(cè)塊的尺寸，設(shè)置所述第一濾波處理，包括：

當(dāng)所述當(dāng)前塊的寬度與所述MIP預(yù)測(cè)塊的寬度相等、所述當(dāng)前塊的高度大于所述MIP預(yù)測(cè)塊的高度時(shí)，將所述第一濾波處理設(shè)置為所述第三上采樣處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述根據(jù)所述當(dāng)前塊的尺寸和所述MIP預(yù)測(cè)塊的尺寸，設(shè)置所述第一濾波處理，包括：

當(dāng)所述當(dāng)前塊的高度和寬度均大于所述MIP預(yù)測(cè)塊的高度和寬度、所述當(dāng)前塊的寬度大于所述當(dāng)前塊的高度時(shí)，將所述第一濾波處理設(shè)置為所述第四上采樣處理。