[發(fā)明專利]用于計(jì)量的方法和裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980084489.6
• 申請日: 2019-11-18
• 公開（公告）號: CN113196176A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·W·斯莫雷恩伯格;S·I·莫薩瓦特;T·J·科南
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N23/20008;G01N21/956
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 趙林琳

1.一種用于將作為高次諧波產(chǎn)生(HHG)的結(jié)果發(fā)射的輻射束引導(dǎo)到襯底上的裝置，所述裝置包括：

驅(qū)動輻射源；

相互作用區(qū)域，被配置為接收介質(zhì)，并且被定位成使得來自所述驅(qū)動輻射源的驅(qū)動輻射束在使用期間與所述介質(zhì)相互作用，以通過HHG產(chǎn)生所發(fā)射的輻射束，其中所發(fā)射的輻射束包括多個波長，并且其中所發(fā)射的輻射的發(fā)射發(fā)散角依賴于波長；

光學(xué)系統(tǒng)，位于所述相互作用區(qū)域的下游，并且被配置為聚焦所發(fā)射的輻射束，其中所發(fā)射的輻射束的所述多個波長依據(jù)相關(guān)聯(lián)的發(fā)射發(fā)散角被聚焦在多個焦平面處；以及

襯底支撐件，用于將所述襯底保持在相對于所述多個焦平面的多個軸向位置中的一個軸向位置處，

其中所述驅(qū)動輻射源、所述相互作用區(qū)域、所述光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底支撐件中的一個或多個能夠被配置為控制所述焦平面中的至少一個焦平面相對于所述襯底的相對位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中至少以下之一：

-所述相互作用區(qū)域包括：噴嘴，用于將所述介質(zhì)導(dǎo)向所述相互作用區(qū)域；或者氣室，用于保持所述介質(zhì)，并且其中所述噴嘴或所述氣室被配置為用于控制所述介質(zhì)的軸向位置，

-所述驅(qū)動輻射源被配置為用于控制所述驅(qū)動輻射束的焦點(diǎn)的軸向位置，

-所述光學(xué)系統(tǒng)被配置為控制所述焦平面中的一個或多個焦平面的軸向位置，以及

-所述襯底支撐件被配置為控制保持在所述襯底支撐件上的所述襯底的軸向位置。

3.根據(jù)任一前述權(quán)利要求所述的裝置，其中當(dāng)所發(fā)射的輻射束從所述襯底上的特征被衍射和/或反射時(shí)，衍射和/或反射的輻射的強(qiáng)度取決于所發(fā)射的輻射束的波長，

并且其中所述驅(qū)動輻射源、所述相互作用區(qū)域、所述光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底支撐件中的所述一個或多個能夠被配置為：基于所述衍射和/或反射的輻射的強(qiáng)度，來控制所述焦平面中的至少一個焦平面相對于所述襯底的所述相對位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述衍射和/或反射的輻射包括正階和負(fù)階，并且所述正階和所述負(fù)階之間的強(qiáng)度差取決于所發(fā)射的輻射束的波長，

并且其中所述驅(qū)動輻射源、所述相互作用區(qū)域、所述光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底支撐件中的所述一個或多個能夠被配置為：基于正階和負(fù)階之間的所述強(qiáng)度差，來控制所述焦平面中的至少一個焦平面相對于所述襯底的所述相對位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中第一強(qiáng)度差基于在一個或多個參數(shù)中沒有誤差的所述特征，并且其中第二強(qiáng)度差基于在所述一個或多個參數(shù)中具有特定誤差的所述特征，

并且其中所述驅(qū)動輻射源、所述相互作用區(qū)域、所述光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底支撐件中的所述一個或多個能夠被配置為：基于所述第一強(qiáng)度差和所述第二強(qiáng)度差之間的差，來控制所述焦平面中的至少一個焦平面相對于所述襯底的所述相對位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中所述驅(qū)動輻射源、所述相互作用區(qū)域、所述光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底支撐件中的所述一個或多個能夠被配置為：將所選擇的焦平面定位成與所述襯底的平面基本重合，其中所選擇的焦平面是基于衍射和/或反射的輻射的所述強(qiáng)度而被確定的，

并且其中，可選地，所述驅(qū)動輻射源、所述相互作用區(qū)域、所述光學(xué)系統(tǒng)和所述襯底支撐件中的所述一個或多個能夠被配置為將多個所選擇的焦平面定位成與所述襯底基本重合。

7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中任一項(xiàng)所述的裝置，還包括：第一輻射檢測器，被配置為檢測衍射和/或反射的輻射的所述正階；以及第二輻射檢測器，被配置為檢測衍射和/或反射的輻射的所述負(fù)階。