[發明專利]使用干式電解質中的HCL通過離子傳輸來拋光鈦以其他金屬和合金表面在審
| 申請號： | 201980083852.2 | 申請日： | 2019-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN113195799A | 公開（公告）日： | 2021-07-30 |
| 發明（設計）人： | 保羅·薩爾薩內達斯·米勒 | 申請（專利權）人： | 德里萊特公司 |
| 主分類號： | C25F3/16 | 分類號： | C25F3/16 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 景懷宇 |
| 地址： | 西班牙*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 使用 電解質 中的 hcl 通過 離子 傳輸 拋光 其他 金屬 合金 表面 | ||
【權利要求書】：
1.一種使用干式電解質通過離子傳輸來拋光鈦及其它金屬和合金表面的方法，其特征在于，
所述干式電解質的導電液體包括HCl。
2.根據權利要求1所述的使用干式電解質通過離子傳輸來拋光鈦及其它金屬和合金表面的方法，其特征在于，
所述HCl相對于溶劑的濃度的范圍為1％至38％。
3.根據權利要求2所述的使用干式電解質通過離子傳輸來拋光鈦及其它金屬和合金表面的方法，其特征在于，
所述HCl相對于所述溶劑的所述濃度的范圍為5％至15％。
4.一種干式電解質，其特征在于，所述干式電解質包括鹽酸，所述鹽酸作為根據前述權利要求中任一項所述的導電液體。
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