[發(fā)明專利]電子設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980082891.0 | 申請日: | 2019-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN113196156A | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 青木良朗;木村裕之 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日本顯示器 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/13;G02F1/13357;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 陳偉;閆劍平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子設備 | ||
1.一種電子設備,其特征在于,具備:
第1攝像頭;
第1偏振片;
第2偏振片;以及
設在所述第1偏振片與所述第2偏振片之間的液晶面板,
所述液晶面板具備:
第1掃描線;
與所述第1掃描線交叉的第1信號線;
與所述第1掃描線以及所述第1信號線電連接的第1開關(guān)元件;以及
與所述第1開關(guān)元件電連接的第1控制電極,
所述第1控制電極與所述第1攝像頭重疊,且設在環(huán)狀的第1區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述第1掃描線以及所述第1信號線沿所述第1區(qū)域形成為圓弧狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述第1控制電極具備環(huán)狀的第1基電極、多個第1帶電極,
所述第1帶電極與所述第1基電極連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設備,其特征在于,
所述液晶面板還具備液晶層、設在所述第1攝像頭與所述液晶層之間的共用電極、以及設在所述共用電極與所述液晶層之間的絕緣膜,
所述第1控制電極設在所述絕緣膜與所述液晶層之間,與所述共用電極重疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設備,其特征在于,
所述液晶面板還具備液晶層、以及設在所述第1攝像頭與所述液晶層之間的共用電極,
所述共用電極具有與所述第1帶電極交替排列的第2帶電極。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子設備,其特征在于,
向所述第1控制電極供給的電壓的極性與向所述共用電極供給的電壓的極性為相反極性。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子設備,其特征在于,
所述液晶面板還具備像素電極,
所述像素電極具備多個第3帶電極,
所述第3帶電極的間距與所述第1帶電極的間距相等,
所述第1帶電極以及所述第3帶電極沿相對于所述第1掃描線傾斜地交叉的方向延伸,
所述第1帶電極與所述第3帶電極平行地延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設備,其特征在于,
所述液晶面板還具備沿所述第1區(qū)域的外緣部設置的遮光層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設備,其特征在于,
還具備設在所述第1攝像頭的背面一側(cè)的第2攝像頭,
所述液晶面板具備:
第2掃描線;
與所述第2掃描線交叉的第2信號線;
與所述第2掃描線以及所述第2信號線電連接的第2開關(guān)元件;以及
與所述第2開關(guān)元件電連接的第2控制電極,
所述第2控制電極與所述第2攝像頭重疊,且設在環(huán)狀的第2區(qū)域,
所述液晶面板在所述第1區(qū)域與所述第2區(qū)域之間彎曲。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設備,其特征在于,
還具備:
光源;以及
導光板,其具有與所述光源相對置的側(cè)面,
所述導光板具有第1貫穿孔,
所述第1攝像頭與所述第1貫穿孔重疊。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設備,其特征在于,
還具備設在所述導光板與所述液晶面板之間的光學片,
所述光學片具有與所述第1貫穿孔重疊的第2貫穿孔。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設備,其特征在于,
還具備反射片,
所述導光板設在所述反射片與所述光學片之間,
所述反射片具有與所述第1貫穿孔重疊的第3貫穿孔。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





