[發明專利]測量光刻工藝的參數的方法

在審

• 申請號: 201980082667.1
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN113168122A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: H·A·J·克拉默;H·D·波斯;E·J·庫普;A·E·A·庫倫;H-K·尼恩海斯;A·波洛;廉晉;A·J·登博夫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N21/47
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 趙林琳;鄭振

1.一種測量光刻工藝的參數的方法，包括：

修改來自輻射源的輻射，并且利用經修改的所述輻射照射使用所述光刻工藝形成在襯底上的目標；以及

檢測從所述目標散射的輻射，并且分析所檢測的輻射以確定所述參數，其中：

對所述輻射進行所述修改包括：修改所述輻射的波長譜以具有介于全局最大值與局部最大值之間的局部最小值，其中所述局部最小值處的所述輻射的功率譜密度小于所述全局最大值處的所述輻射的所述功率譜密度的20％，并且所述局部最大值處的所述輻射的所述功率譜密度至少為所述全局最大值處的所述輻射的所述功率譜密度的50％。

2.根據權利要求1所述的方法，其中：

靈敏度曲線將確定所述參數的過程的靈敏度的變化定義為從所述目標散射的輻射的波長的函數；以及

相對于所述波長譜未被修改的情況而言，經修改的所述波長譜更為接近地匹配所述靈敏度曲線，使得通過分析所檢測的輻射來確定所述參數的所述過程的整體靈敏度得以提高。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述局部最大值和所述全局最大值的位置或經修改的所述波長譜的至少兩個其他局部最大值的位置與根據波數而標繪的所述靈敏度曲線中的局部最小值或局部最大值的位置相匹配，匹配程度為根據波數而標繪的所述靈敏度曲線中的局部最大值之間的平均間隔或局部最小值之間的平均間隔的25％之內。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其中當所述波長譜根據波數進行標繪時，所述波長譜被修改為使得兩對或更多對相鄰局部最大值均勻隔開。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述均勻隔開的局部最大值之間的間隔被調諧為匹配根據波數而標繪的所述靈敏度曲線中的局部最大值之間或局部最小值之間的間隔，匹配程度為根據波數而標繪的所述靈敏度曲線中的局部最大值之間的平均間隔或局部最小值之間的平均間隔的25％之內。

6.根據權利要求5所述的方法，其中根據波數而標繪的經修改的所述波長譜中的與所述均勻隔開的局部最大值相對應的周期性變化的相位被調諧為與根據波數而標繪的所述靈敏度曲線同相，同相程度為根據波數而標繪的所述靈敏度曲線中的局部最大值之間的平均間隔或局部最小值之間的平均間隔的25％之內。

7.根據權利要求2至6中任一項所述的方法，其中所述光刻工藝的所述參數使用不同目標和不同襯底中的一者或兩者來測量多次，并且所述光譜以不同方式進行修改，以便與所述光刻工藝的所述參數的所述測量的至少子集中的每一個測量的不同相應靈敏度曲線相匹配。

8.根據任一前述權利要求所述的方法，其中所述波長譜使用基于干涉測量的可調多帶濾波器來修改。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述可調多帶濾波器包括法布里-珀羅干涉儀。

10.根據任一前述權利要求所述的方法，其中所述波長譜使用聲光可調濾波器來修改。

11.根據任一前述權利要求所述的方法，其中：

要修改的輻射的不同波長分量被引導到不同的相應位置；以及

所述輻射至少在所述不同的相應位置的子集中以不同方式進行調制，以執行對所述波長譜的所述修改。

12.根據任一前述權利要求所述的方法，其中：

要修改的輻射的不同波長分量被引導到空間光調制器的不同相應區域；以及

所述空間光調制器至少在所述不同相應區域的子集中以不同方式對輻射進行調制，以執行對所述波長譜的所述修改。

13.根據任一前述權利要求所述的方法，其中對所述輻射進行所述修改還包括：修改所述波長譜以作為所述輻射到所述目標上的入射角度的函數而變化。