[發明專利]光譜儀設備和用于制造光譜儀設備的方法

在審

• 申請號: 201980082495.8
• 申請日: 2019-12-06
• 公開（公告）號: CN113196021A
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: R·諾特邁耶;M·胡思尼克;E·鮑姆加特;M·施米德;R·勒德爾;B·斯坦;C·謝林;C·D·克萊默
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: G01J3/02
• 分類號: G01J3/02;G01J3/26;G01J3/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 姬亞東;劉春元

1.一種光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），其具有：

光學干涉濾光器（2），所述光學干涉濾光器被構造為：在入射光線（L）穿過所述光學干涉濾光器（2）時對所述入射光線的特定的波長范圍進行濾波；

探測裝置（3），所述探測裝置被構造為探測經濾波的光線（L）；和

聚焦裝置（4a；4c），所述聚焦裝置具有反射表面（5），其中所述聚焦裝置（4a；4c）被構造為：通過在所述表面（5）上的反射來使所述經濾波的光線（L）聚焦到所述探測裝置（3）上。

2.根據權利要求1所述的光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），其中所述探測裝置（3）在所述干涉濾光器（2）的光出射側集成到所述干涉濾光器（2）中或者直接或間接布置在所述干涉濾光器（2）上。

3.根據權利要求1或2所述的光譜儀設備（1a；1b），其中所述探測裝置（3）與延伸經過所述光學干涉濾光器（2）的中心的軸線（A）至少部分地重疊。

4.根據上述權利要求中任一項所述的光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），所述光譜儀設備具有載體裝置（6a；6b；6c；6d），其中所述光學干涉濾光器（2）、所述探測裝置（3）和所述聚焦裝置（4a；4c）直接或間接布置在所述載體裝置（6a；6b；6c；6d）上。

5.根據權利要求4所述的光譜儀設備（1c；1d），其中所述探測裝置（3）在所述光學干涉濾光器（2）的光出射側與所述干涉濾光器（2）相鄰地布置在所述載體裝置（6c；6d）上。

6.根據權利要求4或5所述的光譜儀設備（1b），其中所述載體裝置（6b）包括至少一個間隔元件（7），所述至少一個間隔元件將所述聚焦裝置（4a）與所述光學干涉濾光器（2）連接并且使所述聚焦裝置與所述光學干涉濾光器彼此間隔開，其中所述至少一個間隔元件（7）至少局部具有吸收性涂層。

7.根據權利要求4至6中任一項所述的光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），其中所述探測裝置（3）的表面部段和/或所述干涉濾光器（2）和/或所述載體裝置（6a；6b；6c；6d）的與所述探測裝置（3）相鄰的表面部段至少局部具有吸收性涂層。

8.根據上述權利要求中任一項所述的光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），其中所述探測裝置（3）具有環形探測器、分段的探測元件和/或陣列形布置的探測元件。

9.根據上述權利要求中任一項所述的光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），其中所述探測裝置（3）具有至少兩個堆疊的探測元件，所述探測元件對不同的波長范圍敏感。

10.根據上述權利要求中任一項所述的光譜儀設備（1a；1b；1c；1d），其中所述光學干涉濾光器（2）構造成法布里-珀羅干涉濾光器。

11.一種用于制造光譜儀設備（1a；1b；1c；1d）的方法，所述方法具有如下步驟：

提供（S1）光學干涉濾光器（2），所述光學干涉濾光器被構造為：在入射光線（L）穿過所述光學干涉濾光器（2）時對所述入射光線的特定的波長范圍進行濾波；

提供（S2）探測裝置（3），所述探測裝置被構造為探測經濾波的光線（L）；而且

提供（S3）聚焦裝置（4a；4c），所述聚焦裝置具有反射表面（5），其中所述聚焦裝置（4a；4c）、所述探測裝置（3）和所述光學干涉濾光器（2）相對于彼此被布置為使得所述聚焦裝置（4a；4c）能夠將所述經濾波的光線（L）聚焦到所述探測裝置（3）上。