[發(fā)明專利]活性氣體生成裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980080397.0
• 申請日: 2019-11-27
• 公開（公告）號: CN113179676A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 渡邊謙資;有田廉
• 申請（專利權(quán)）人: 東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會社
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 戚宏梅

1.一種活性氣體生成裝置，生成使供給至放電空間的原料氣體活化而得到的活性氣體，具備：

第一電極構(gòu)成部；以及

第二電極構(gòu)成部，設(shè)置在上述第一電極構(gòu)成部的下方，

上述第一電極構(gòu)成部具有第一電極用電介質(zhì)膜以及形成在上述第一電極用電介質(zhì)膜的上表面上的第一金屬電極，上述第二電極構(gòu)成部具有第二電極用電介質(zhì)膜以及形成在上述第二電極用電介質(zhì)膜的下表面上的第二金屬電極，上述第一金屬電極被施加交流電壓，上述第二金屬電極被設(shè)定為接地電位，在上述第一以及第二電極用電介質(zhì)膜相對置的電介質(zhì)空間內(nèi)，作為上述放電空間而包含上述第一以及第二金屬電極在俯視時重疊的區(qū)域，

上述第一電極用電介質(zhì)膜在中央部具有用于將上述原料氣體向上述放電空間供給的氣體供給口，上述氣體供給口設(shè)置為在俯視時不與上述第一金屬電極重疊，

上述第二電極用電介質(zhì)膜具有用于將上述活性氣體向下方噴出的至少一個氣體噴出孔，

上述第一電極構(gòu)成部還具有在上述第一電極用電介質(zhì)膜的上表面上與上述第一金屬電極相獨立地形成的輔助導電膜，

上述放電空間以在俯視時不與上述氣體供給口重疊且包圍上述氣體供給口的方式形成，

上述至少一個氣體噴出孔以在俯視時不與上述氣體供給口以及上述放電空間重疊、且離上述氣體供給口的距離比離上述放電空間的距離遠的方式配置，在上述電介質(zhì)空間中，從上述放電空間到達上述至少一個氣體噴出孔的路徑被規(guī)定為活性氣體流通路徑，

上述輔助導電膜在俯視時不與上述第一金屬電極重疊且包圍上述第一金屬電極，并且在俯視時與上述活性氣體流通路徑的一部分重疊，

上述活性氣體生成裝置還具備與上述輔助導電膜的上表面的一部分接觸地設(shè)置、且具有導電性的電極輔助部件，

上述輔助導電膜經(jīng)由上述電極輔助部件而被設(shè)定為接地電位。

2.如權(quán)利要求1所述的活性氣體生成裝置，其中，

上述第二電極用電介質(zhì)膜具有在俯視時沿著外周而上方突出的突出區(qū)域，

上述第一以及第二電極用電介質(zhì)膜以上述第一電極用電介質(zhì)膜的下表面與上述第二電極用電介質(zhì)膜的上述突出區(qū)域的上表面接觸的方式層疊，在上述第一電極用電介質(zhì)膜的下表面與上述第二電極用電介質(zhì)膜的上表面之間，作為上述電介質(zhì)空間而形成有相對于外部被遮斷的封閉空間。

3.如權(quán)利要求1或2所述的活性氣體生成裝置，其中，

上述活性氣體生成裝置還具備：

基底凸緣，設(shè)置在上述第二電極構(gòu)成部的下方，與上述第二金屬電極接觸而支承上述第二電極構(gòu)成部，且具有導電性，

上述基底凸緣具有用于將從上述至少一個氣體噴出孔噴出的活性氣體向下方噴出的至少一個基底凸緣用氣體噴出孔，

上述電極輔助部件在與上述基底凸緣電連接的狀態(tài)下固定于上述基底凸緣，

上述基底凸緣被賦予接地電位。

4.如權(quán)利要求3所述的活性氣體生成裝置，其中，

設(shè)置于上述基底凸緣的上述至少一個基底凸緣用氣體噴出孔包括多個基底凸緣用氣體噴出孔，多個基底凸緣用氣體噴出孔在俯視時呈放射狀分離配置。