[發(fā)明專利]具有定制提取孔的離子源

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• 申請日: 2019-11-06
• 公開（公告）號: CN113169006A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設計）人: 帕特里克·赫雷斯;丹尼斯·羅比塔爾
• 申請（專利權）人: 艾克塞利斯科技公司
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08;H01J27/02
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 劉芳;壽寧

1.一種離子源，其包括：

離子源殼體，其限定離子產生腔室，所述離子產生腔室用于限制其中的離子的高密度濃度；以及

提取構件，其與所述離子源殼體相關聯(lián)，其限定用于允許離子離開所述離子產生腔室的提取孔，其中所述提取孔具有定制形狀，所述定制形狀包括：

中心部分，其具有第一寬度尺寸；以及

第一遠端部分和第二遠端部分，其從所述中心部分的相對側延伸，所述相對的遠端部分具有第二寬度尺寸，所述第二寬度尺寸大于所述中心部分的所述第一寬度尺寸。

2.根據權利要求1所述的離子源，其中所述提取構件具有凸起的側面特征，使得所述提取構件的深度尺寸在所述定制形狀的提取孔的所述中心部分相鄰處最大，并且在所述遠端部分附近具有減小的深度尺寸。

3.根據權利要求1所述的離子源，其中所述提取孔包括多個相對的曲線側壁部分，使得所述提取孔在平面圖中是曲線的。

4.根據權利要求3所述的離子源，其中所述多個相對的曲線側壁部分包括：

與所述中心部分相關聯(lián)的側壁，其在形狀上是相對凸起的；以及

與所述第一遠端和所述第二遠端中的每一個相關聯(lián)的側壁，其在形狀上是相對凹入的。

5.根據權利要求3所述的離子源，其中與所述第一遠端和所述第二遠端相關聯(lián)的所述側壁在平面圖中形成圓形形狀。

6.根據權利要求3所述的離子源，其中與所述第一遠端和所述第二遠端相關聯(lián)的所述側壁在平面圖中形成橢圓形形狀。

7.根據權利要求1所述的離子源，其中所述定制形狀沿著延伸穿過所述中心部分以及所述第一遠端部分和所述第二遠端部分的中心軸線對稱。

8.根據權利要求1所述的離子源，其中所述定制形狀沿著延伸穿過所述中心部分以及所述第一遠端部分和所述第二遠端部分的中心軸線是不對稱的。

9.根據權利要求1所述的離子源，其中所述第一遠端部分和所述第二遠端部分相對于所述中心部分對稱。

10.根據權利要求1所述的離子源，其中所述第一遠端部分和所述第二遠端部分相對于所述中心部分不對稱。

11.根據權利要求1所述的離子源，其中所述提取孔包括多個相對的線性側壁部分，使得所述提取孔在平面圖中是線性的。

12.根據權利要求11所述的離子源，其中，與所述第一遠端和所述第二遠端相關聯(lián)的所述相對的線性側壁部分在其間沿著從所述中心部分延伸到所述第一遠端和所述第二遠端的路徑具有逐漸增加的寬度尺寸。

13.根據權利要求11所述的離子源，其中，與所述第一遠端和所述第二遠端相關聯(lián)的所述相對的線性側壁部分包括由其間變化的寬度尺寸而分開的多個相對的橫向片段。

14.一種離子注入機，其包含：

離子源，其包括：

殼體，其限定弧形腔室，所述弧形腔室用于限制其中的離子的高密度濃度；以及

提取構件，其與所述離子源殼體相關聯(lián)，所述提取構件限定用于允許離子離開所述弧形腔室的提取孔，其中所述提取孔具有定制形狀，所述定制形狀包括：

中心部分，其具有第一寬度尺寸；以及

第一遠端部分和第二遠端部分，其從所述中心部分的相對側延伸，所述相對的遠端部分具有第二寬度尺寸，所述第二寬度尺寸大于所述中心部分的所述第一寬度尺寸。

15.根據權利要求14所述的離子注入機，其中所述提取孔的所述定制形狀具有大致為狗骨形狀的平面特征。

16.根據權利要求14所述的離子注入機，其中所述提取孔的所述定制形狀具有大致為領結形狀的平面特征。