[發明專利]煙霧探測器腔邊界表面在審
| 申請號: | 201980078688.6 | 申請日: | 2019-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN113167710A | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | S·德立瓦拉 | 申請(專利權)人: | 美國亞德諾半導體公司 |
| 主分類號: | G01N15/06 | 分類號: | G01N15/06 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 汪晶晶 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 煙霧 探測器 邊界 表面 | ||
1.一種用于在緊湊型足跡探測器內探測煙霧的設備,該探測器基本上將光傳播離開煙霧探測器腔,該設備包括:
第一光源;
第一光電探測器,基本上設置在所述第一光源的近端;
用于執行以下操作的非易失性邏輯:
從所述第一光電探測器接收第一信號;和,
至少基于第一接收的信號確定煙霧的存在;和
基本上垂直于所述第一光源設置的帽。
2.權利要求1所述的設備,其中所述帽至少部分地基本上呈圓錐形。
3.權利要求2所述的設備,其中所述帽的圓錐形部分至少部分是拋物線。
4.權利要求2所述的設備,其中所述帽的圓錐形部分至少部分是橢圓。
5.根據權利要求1-4中的任一項所述的設備,還包括具有圍繞第一波長為中心的光譜強度的第一發光二極管。
6.根據權利要求1-4中的任一項所述的設備,還包括光學偏轉元件的陣列,所述光學偏轉元件的陣列基本上圍繞所述帽的外半徑以圓形布置。
7.權利要求6所述的設備,其中所述光學偏轉元件的陣列中的每一個基本上是翼形的。
8.權利要求6所述的設備,還包括設置在所述帽和所述光學偏轉元件的陣列中的至少一個上的抗反射涂層。
9.權利要求8所述的設備,其中所述涂層圍繞所述第一波長為中心。
10.根據權利要求1-4和6-9中的任一項所述的設備,還包括基板,在該基板中所述帽機械地耦合到所述基板。
11.一種用于在緊湊型足跡探測器中探測煙霧的方法,該探測器基本上將光傳播離開煙霧探測器腔,該設備包括:
從第一光源提供光;
在設置在所述第一光源的近端的第一光電探測器上探測光;
從所述第一光電探測器接收第一信號;
至少基于第一接收的信號確定煙霧的存在,所述信號至少部分基于散射的顆粒物;和
使用帽來反射光,該帽以幾何方式將光反射離開所述第一光電探測器。
12.權利要求11所述的方法,其中所述帽至少部分地基本上呈圓錐形。
13.權利要求12所述的方法,其中所述帽的圓錐形部分至少部分是拋物線。
14.權利要求12所述的方法,其中所述帽的圓錐形部分至少部分是橢圓。
15.根據權利要求11-14中的任一項所述的方法,其中所述第一光源是具有圍繞第一波長為中心的光譜強度的第一發光二極管。
16.根據權利要求11-14中的任一項所述的方法,還包括圍繞所述帽的外半徑以大體上圓形布置光學偏轉元件的陣列。
17.權利要求16所述的方法,其中所述光學偏轉元件的陣列中的每一個基本上是翼形的。
18.權利要求16所述的方法,還包括在所述帽和所述光學偏轉元件的陣列中的至少一個上沉積抗反射涂層。
19.權利要求18所述的方法,其中所述涂層圍繞所述第一波長為中心。
20.根據權利要求11-14和17-19中的任一項所述的方法,還包括將所述帽機械地耦合到所述基板。
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