[發明專利]光學層疊膜輥的制造方法及光學層疊膜輥有效
| 申請號: | 201980078635.4 | 申請日: | 2019-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN113167955B | 公開(公告)日: | 2023-02-21 |
| 發明(設計)人: | 渥美匡廣;西川秀幸 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;B32B27/30;G02F1/13;G02F1/13363;G02F1/1337;B32B7/023 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 層疊 制造 方法 | ||
1.一種光學層疊膜輥的制造方法,其為制作光學層疊膜的輥狀物的方法,所述光學層疊膜具有使用含有粘合劑及光取向性聚合物的粘合劑組合物而形成的粘合劑層、及設置于所述粘合劑層上的光學各向異性層,所述光學各向異性層使用含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組合物而形成,所述粘合劑層與所述光學各向異性層彼此相鄰而層疊,所述光學層疊膜輥的制造方法包括下述工序:第1涂布工序,將含有粘合劑及光取向性聚合物的粘合劑組合物涂布于進行運載的長尺寸的支撐體上而形成第1涂膜;粘合劑層形成工序,在所述第1涂布工序之后形成粘合劑層;作用工序,使選自由光、熱、酸及堿組成的組中的至少1種作用;光照射工序,照射偏振光或無偏振光;第2涂布工序,將含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組合物直接涂布于所述粘合劑層上,形成寬度比所述粘合劑層的寬度寬的第2涂膜;光學各向異性層形成工序,在所述第2涂布工序之后,形成寬度比所述粘合劑層的寬度寬的光學各向異性層而制作光學層疊膜;及卷取工序,在所述光學各向異性層形成工序之后,將所述光學層疊膜卷取成輥狀而制作光學層疊膜輥,所述作用工序為在所述粘合劑層形成工序與所述第2涂布工序之間進行的工序、或者與所述粘合劑層形成工序或所述第2涂布工序同時進行的工序,所述光照射工序為在所述粘合劑層形成工序與所述第2涂布工序之間進行的工序、或者與所述粘合劑層形成工序或所述第2涂布工序同時進行的工序,所述光取向性聚合物為具有重復單元A的光取向性聚合物,所述重復單元A包含通過選自由光、熱、酸及堿組成的組中的至少1種的作用分解而生成極性基團的裂解基團,所述重復單元A在側鏈上具有所述裂解基團,并且在比所述側鏈的所述裂解基團更靠末端側具有氟原子或硅原子,所述光取向性聚合物滿足以下所示的條件1或條件2,條件1:除了所述重復單元A以外,還具有包含光取向性基團的重復單元B,條件2:所述重復單元A在比所述側鏈的所述裂解基團更靠主鏈側包含光取向性基團。
2.根據權利要求1所述的光學層疊膜輥的制造方法,其中,所述作用工序為使光作用并且與粘合劑層形成工序同時進行的工序,所述光照射工序為在所述粘合劑層形成工序與所述第2涂布工序之間進行的工序。
3.一種光學層疊膜輥,其為光學層疊膜的輥狀物,所述光學層疊膜具有使用含有粘合劑及光取向性聚合物的粘合劑組合物而形成的粘合劑層、及設置于所述粘合劑層上的光學各向異性層,所述光學各向異性層使用含有聚合性液晶化合物的聚合性液晶組合物而形成,所述粘合劑層與所述光學各向異性層彼此相鄰而層疊,所述光學各向異性層的寬度比所述粘合劑層的寬度寬,所述光學各向異性層以覆蓋所述粘合劑層的表面及端面的方式層疊。
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