[發(fā)明專利]疊層體、其制造方法和具備該疊層體的電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980077881.8
• 申請(qǐng)日: 2019-11-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113165335A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 牧島幸宏;畠澤翔太;井宏元
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 柯尼卡美能達(dá)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): B32B9/00
• 分類(lèi)號(hào): B32B9/00;B32B27/00;C09D5/00;C09D133/00;C09D163/00;C09D183/04;C09D185/00;H05B33/02;H05B33/04;H01L51/50;B32B38/18;G06F3/041
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 張濤

1.一種疊層體，其為至少具備粘接劑層和阻氣層的疊層體，其中，

所述阻氣層含有無(wú)機(jī)材料，并且，

在所述粘接劑層和所述阻氣層之間配置有含有光或熱固化型的樹(shù)脂的防溶劑滲透層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層體，其中，

所述防溶劑滲透層的層厚為1～10000nm的范圍內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的疊層體，其中，

所述防溶劑滲透層至少含有硅氧烷類(lèi)樹(shù)脂、丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂或環(huán)氧類(lèi)樹(shù)脂。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的疊層體，其中，

所述防溶劑滲透層含有硅氧烷類(lèi)樹(shù)脂。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的疊層體，其中，

在所述防溶劑滲透層的所述阻氣層側(cè)的表面具有改性層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的疊層體，其中，

所述改性層的所述阻氣層側(cè)的表面在溫度23℃下對(duì)于水的接觸角為20～100°的范圍內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或權(quán)利要求6所述的疊層體，其中，

所述改性層的層厚為1～70nm的范圍內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的疊層體，其中，

所述阻氣層含有聚硅氮烷及其改性體。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的疊層體，其中，

在所述防溶劑滲透層和阻氣層之間具有有機(jī)金屬氧化物層，所述有機(jī)金屬氧化物層含有具有下述通式(A)表示的結(jié)構(gòu)的有機(jī)金屬氧化物，

通式(A)R-[M(OR₁)_y(O-)_x-y]_n-R

式中，R表示氫原子、碳原子數(shù)1個(gè)以上的烷基、烯基、芳基、環(huán)烷基、酰基、烷氧基或雜環(huán)基，但是，R可包含氟原子作為取代基，M表示金屬原子，OR₁表示氟烷氧基，x表示金屬原子的價(jià)數(shù)，y表示1和x之間的任意整數(shù)，n表示縮聚度。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的疊層體，其中，

所述M表示的金屬原子選自Si、Ti、Zr、Mg、Ca、Sr、Bi、Hf、Nb、Zn、Al、Pt、Ag和Au。

11.根據(jù)權(quán)利要求9或權(quán)利要求10所述的疊層體，其中，

所述有機(jī)金屬氧化物層至少包含發(fā)生了溶膠-凝膠相轉(zhuǎn)移的涂布膜。

12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的疊層體，其中，

在所述粘接劑層的與防溶劑滲透層相反的一側(cè)具備可剝離的膜。

13.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的疊層體，其中，

在所述粘接劑層的與防溶劑滲透層相反的一側(cè)配置有可剝離的膜，并且

在所述阻氣層的與防溶劑滲透層相反的一側(cè)進(jìn)一步配置有粘接劑層。

14.一種疊層體的制造方法，其為至少具備粘接劑層和阻氣層的疊層體的制造方法，所述方法具有：

在所述粘接劑層的表面涂布光或熱固化型的樹(shù)脂，形成含有該樹(shù)脂的防溶劑滲透層的工序；和

在所述防溶劑滲透層的表面涂布無(wú)機(jī)材料，形成含有該無(wú)機(jī)材料的阻氣層的工序。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的疊層體的制造方法，其在形成所述防溶劑滲透層的工序之后，還具有：

對(duì)該防溶劑滲透層至少進(jìn)行紫外線照射處理、閃燒處理、大氣壓等離子體處理、等離子體離子注入處理或加熱處理的工序。

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的疊層體的制造方法，其在形成所述防溶劑滲透層的工序之后，還具有：

對(duì)該防溶劑滲透層進(jìn)行紫外線照射處理的工序。

17.一種電子設(shè)備，其具備：

權(quán)利要求1～13中任一項(xiàng)所述的疊層體。