[發(fā)明專利]金屬膜、以及濺射靶

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980076856.8
• 申請日: 2019-12-05
• 公開（公告）號: CN113166921A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 歲森悠人;野中莊平;小見山昌三;林雄二郎
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱綜合材料株式會社
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C22C5/06;C23C14/34;G02F1/1335;G02F1/1343;C22F1/00;C22F1/14
• 代理公司: 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018
• 代理人: 刁興利;康泉

1.一種金屬膜，其特征在于，

以0.05原子％以上且5.00原子％以下的范圍含有In，并且Pd的含量為40質(zhì)量ppm以下、Pt的含量為20質(zhì)量ppm以下、Au的含量為20質(zhì)量ppm以下、Rh的含量為10質(zhì)量ppm以下、且Pd、Pt、Au及Rh的總含量為50質(zhì)量ppm以下，剩余部分由Ag與不可避免雜質(zhì)構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬膜，其特征在于，

進(jìn)一步以總計0.05原子％以上含有Sb、Zn、Sn、Pb、Ti中的至少一種或兩種以上作為添加元素，并且In及Sb、Zn、Sn、Pb、Ti的總含量為5.00原子％以下。

3.一種濺射靶，其特征在于，

以0.05原子％以上且5.00原子％以下的范圍含有In，并且Pd的含量為40質(zhì)量ppm以下、Pt的含量為20質(zhì)量ppm以下、Au的含量為20質(zhì)量ppm以下、Rh的含量為10質(zhì)量ppm以下、且Pd、Pt、Au及Rh的總含量為50質(zhì)量ppm以下，剩余部分由Ag與不可避免雜質(zhì)構(gòu)成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濺射靶，其特征在于，

進(jìn)一步以總計0.05原子％以上含有Sb、Zn、Sn、Pb、Ti中的至少一種或兩種以上作為添加元素，并且In及Sb、Zn、Sn、Pb、Ti的總含量為5.00原子％以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濺射靶，其特征在于，

根據(jù)濺射面的多個測定點中的Sb、Zn、Sn、Pb、Ti的總含量值的平均值μ_T與標(biāo)準(zhǔn)差σ_T且由下式所算出的分布D_T為20％以下，

D_T＝(σ_T/μ_T)×100(％)。