[發(fā)明專(zhuān)利]具有反射鏡涂層和用于改善耐磨性的多層系統(tǒng)的光學(xué)鏡片

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980075742.1
• 申請(qǐng)日: 2019-11-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113167926B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-10-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C·瓦倫蒂;F·吉蘭;W·特羅蒂爾-拉普安特
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 依視路國(guó)際公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B1/115
• 分類(lèi)號(hào): G02B1/115;G02B5/08;G02B1/14
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 張振軍;劉娜

1.一種光學(xué)鏡片，所述光學(xué)鏡片包括具有前主面和后主面的基材，所述基材中的至少一個(gè)主面依次涂覆有：

-(A)具有大于1.55的折射率的第一高折射率片材，所述第一高折射率片材不包括任何Ta₂O₅層，

-(B)具有1.55或更小的折射率的第二低折射率片材，所述第二低折射率片材與所述前面的片材直接接觸，

-(C)具有大于1.55的折射率的第三高折射率片材，所述第三高折射率片材與所述前面的片材直接接觸，

-具有大于或等于100nm的厚度的單層子層，所述單層子層與所述前面的片材(C)直接接觸，

-多層干涉涂層，所述多層干涉涂層包括具有大于1.55的折射率的至少一個(gè)高折射率層和具有1.55或更小的折射率的至少一個(gè)低折射率層的堆疊體，所述折射率是針對(duì)550nm的波長(zhǎng)表示的，以及

-至少一個(gè)主面上的在380nm與780nm之間、在ISO 13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的平均光反射因數(shù)Rv大于或等于15％，或者

-所述前主面上的在280nm與380nm之間、由在ISO 13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的函數(shù)W(λ)加權(quán)的平均反射因數(shù)R_UV針對(duì)15°或更小的入射角大于或等于10％，或者

-至少一個(gè)主面上的在780nm與2000nm之間、由在ISO 13666:1998標(biāo)準(zhǔn)中定義的函數(shù)Illum(λ)加權(quán)的在太陽(yáng)近紅外光譜中的反射率RsNIR大于或等于10％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)鏡片，其中，所述子層的沉積是在真空室中進(jìn)行的，在所述沉積過(guò)程中不向所述真空室中供應(yīng)補(bǔ)充氣體。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，所述子層是SiO₂基層。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，所述干涉涂層包括至少一個(gè)Ta₂O₅基層。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，所述干涉涂層包括至少一個(gè)導(dǎo)電層、優(yōu)選地是SnO₂基層。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，所述干涉涂層是減反射涂層。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，所述光學(xué)鏡片是眼科鏡片。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，具有大于1.55的折射率的所述第一高折射率片材(A)是ZrO₂基層。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，具有1.55或更小的折射率的所述第二低折射率片材(B)是SiO₂基層。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，具有大于1.55的折射率的所述第三低折射率片材(C)包括選自Ta₂O₅、Nb₂O₅、PrTiO₃、ZrO₂和Y₂O₃的至少一種材料。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，所述比：

優(yōu)選地大于或等于0.8、更優(yōu)選地大于或等于1.5、更優(yōu)選地大于或等于2。

12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光學(xué)鏡片，其中，具有1.55或更小的折射率的所述第二低折射率片材(B)的厚度小于或等于80nm、優(yōu)選地小于或等于70nm。