[發明專利]通過噴墨印刷制造鈣鈦礦發光器件的方法

在審

• 申請號: 201980075576.5
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN113039661A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: P·萊弗莫爾
• 申請（專利權）人: 佩羅萊德有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/00
• 代理公司: 北京信諾創成知識產權代理有限公司 11728
• 代理人: 張笑笑;王慶云

1.一種組裝鈣鈦礦發射層的方法，其中，所述方法包括以下步驟：

提供襯底；

提供設置在所述襯底上的堤岸結構，其中所述堤岸結構被圖案化以在所述襯底上限定至少一個子像素；

提供鈣鈦礦油墨，其中所述鈣鈦礦油墨包含至少一種溶劑和混合在所述至少一種溶劑中的至少一種鈣鈦礦發光材料；

使用噴墨印刷的方法將所述鈣鈦礦油墨沉積到所述襯底上的所述至少一個子像素中；和

在真空干燥室內真空干燥所述鈣鈦礦油墨，以在所述至少一個子像素中組裝鈣鈦礦發射層。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述鈣鈦礦油墨包含有機金屬鹵化物發光鈣鈦礦材料。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述鈣鈦礦油墨包含無機金屬鹵化物發光鈣鈦礦材料。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，可以通過改變所述鈣鈦礦油墨的真空干燥速率來控制組裝的鈣鈦礦發射層的輪廓。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中，可以通過改變所述鈣鈦礦油墨的真空干燥速率來控制組裝的鈣鈦礦發射層的形態。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，在真空干燥所述鈣鈦礦油墨的步驟中，將所述真空干燥室內部的壓力減小至小于或等于0.0001mbar。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，在真空干燥所述鈣鈦礦油墨的步驟中，在小于或等于60秒內將所述真空干燥室內部的壓力減小至小于或等于0.0001mbar。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，在真空干燥所述鈣鈦礦油墨的步驟中，在小于或等于30秒內將所述真空干燥室內部的壓力減小至小于或等于0.0001mbar。

9.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，真空干燥所述鈣鈦礦油墨的步驟的持續時間小于或等于120秒。

10.根據前述權利要求中的任一項所述的方法，其中，在真空干燥所述鈣鈦礦油墨的步驟中，所述真空干燥室內部的環境溫度為50℃或更低，可選地為30℃或更低。

11.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述鈣鈦礦油墨包含以在0.01wt％至10wt％的范圍內的重量濃度混合在所述至少一種溶劑中的至少一種鈣鈦礦發光材料。

12.根據權利要求1至10中任一項所述的方法，其中，所述鈣鈦礦油墨包含以在0.1wt％至5wt％范圍內的重量濃度混合在所述至少一種溶劑中的至少一種鈣鈦礦發光材料。

13.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，組裝的鈣鈦礦發射層的厚度在15nm至150nm的范圍內。

14.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，可以通過改變所述至少一個子像素的尺寸來控制組裝的鈣鈦礦發射層的輪廓。

15.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，可以通過在沉積鈣鈦礦油墨的步驟中改變鈣鈦礦油墨滴體積來控制組裝的鈣鈦礦發射層的輪廓。

16.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中，所述至少一個子像素的長度在100μm至250μm的范圍內，并且所述至少一個子像素的寬度在40μm至80μm的范圍內。

17.根據權利要求1至15中任一項所述的方法，其中，所述至少一個子像素的長度在50μm至150μm的范圍內，并且所述至少一個子像素的寬度在20μm至40μm的范圍內。