[發明專利]具有改進的組成的玻璃基材有效
| 申請號： | 201980075423.0 | 申請日： | 2019-11-08 |
| 公開（公告）號： | CN113039164B | 公開（公告）日： | 2023-06-06 |
| 發明（設計）人： | V·M·施奈德 | 申請（專利權）人： | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號： | C03C3/097 | 分類號： | C03C3/097;C03C21/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 徐鑫;項丹 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 改進 組成 玻璃 基材 | ||
1.一種制造玻璃基材的方法，其包括：
獲得基礎玻璃，所述基礎玻璃具有限定了厚度t的相對的第一和第二表面并且包括含有堿金屬氧化物的基礎組成；
將基礎玻璃暴露于包含第一金屬的離子的第一離子交換處理從而形成受保護的基礎玻璃；
將受保護的基礎玻璃暴露于包含所述第一金屬的離子和第二金屬的離子的第二離子交換處理從而形成改性基礎玻璃；以及
對改性基礎玻璃進行退火以降低應力和獲得所述堿金屬氧化物、所述第一金屬的氧化物和所述第二金屬的氧化物的分布濃度曲線，從而形成玻璃基材，
其中，第一堿金屬氧化物的平均濃度小于其在基礎組成中的濃度并且在從大于或等于0.18t的深度到基材中心變化小于或等于±1絕對摩爾％；
所述第一金屬的氧化物的平均濃度大于其在基礎組成中的任何濃度并且在從大于或等于0.18t的深度到基材中心變化小于或等于±1絕對摩爾％；以及
所述第二金屬的氧化物的平均濃度大于其在基礎組成中的任何濃度并且在從大于或等于0.18t的深度到基材中心變化小于或等于±1絕對摩爾％。
2.如權利要求1所述的方法，其中，玻璃基材包括小于或等于35MPa的殘留應力。
3.如權利要求1所述的方法，其中，玻璃基材包括小于或等于5MPa的殘留應力。
4.如權利要求1所述的方法，其中，在將基礎玻璃暴露于所述第一離子交換處理之后：
所述堿金屬氧化物以如下濃度存在于受保護的基礎玻璃中，該濃度在所述第一和第二表面中的一個或兩個處為零并且沿著一部分的基材厚度t變化直到濃度達到基礎組成中的該堿金屬氧化物的濃度；以及
所述第一金屬的氧化物以如下濃度存在于受保護的玻璃中，該濃度在所述第一和第二表面中的一個或兩個處為非零的并且沿著一部分的基材厚度t變化直到tp，在那里，濃度達到基礎組成中的所述第一金屬的氧化物的任意濃度。
5.如權利要求4所述的方法，其中，在將受保護的基礎玻璃暴露于包含所述第一金屬的離子和所述第二金屬的離子的第二離子交換處理之后：
所述堿金屬氧化物以如下濃度存在于改性基礎玻璃中，該濃度在所述第一和第二表面中的一個或兩個處為零并且沿著一部分的基材厚度t變化，以及沿著該部分t的濃度小于基礎組成中的該堿金屬氧化物的濃度；以及
所述第一金屬的氧化物以如下濃度存在于改性玻璃中，該濃度在所述第一和第二表面中的一個或兩個處為非零的并且沿著一部分的基材厚度t變化直到tm，在那里，濃度達到基礎組成中的所述第一金屬的氧化物的任意濃度；以及
所述第二金屬的氧化物以如下濃度存在于改性玻璃中，該濃度在所述第一和第二表面中的一個或兩個處為非零的并且沿著一部分的基材厚度t變化。
6.如權利要求5所述的方法，其中，tm大于tp。
7.如權利要求1所述的方法，其中，通過選自下組的本體工藝獲得基礎玻璃：浮法技術、熔合技術、輥制技術、狹縫拉制技術、以及坩堝熔煉。
8.如權利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二金屬獨立地選自下組：鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈁、銀、金、銅，及其組合。
9.如權利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二金屬是獨立地選自下組的堿金屬：鋰、鈉、鉀、銣、銫，及其組合。
10.如權利要求1所述的方法，其中，在300至800℃的保持溫度進行退火。
11.如權利要求1所述的方法，其中，所述第一和第二離子交換處理獨立地包括大于或等于300℃至小于或等于1000℃的浴溫。
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