[發(fā)明專利]錫基熱電轉(zhuǎn)換元件以及錫基熱電轉(zhuǎn)換模塊在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980074811.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113016082A | 公開(公告)日: | 2021-06-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 坂本達(dá)也;田口豊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社安永 |
| 主分類號(hào): | H01L35/08 | 分類號(hào): | H01L35/08;H01L35/14;H02N11/00 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 呂琳;樸秀玉 |
| 地址: | 日本三重*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熱電 轉(zhuǎn)換 元件 以及 模塊 | ||
1.一種錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,具備:
熱電轉(zhuǎn)換部,含有具有由通式:Mg2Si1-xSnx表示的組成的錫基化合物,其中,式中x滿足0.5<x<1的關(guān)系;以及
防擴(kuò)散層,位于所述熱電轉(zhuǎn)換部的表面,
其中,所述防擴(kuò)散層包括Mo層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,其中,
所述防擴(kuò)散層還包括:
第一緊貼層,配設(shè)于所述Mo層與所述熱電轉(zhuǎn)換部之間;以及
第二緊貼層,配設(shè)于隔著所述Mo層與所述第一緊貼層相反側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,其中,
所述第一緊貼層和所述第二緊貼層包括Ti層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,其中,
所述熱電轉(zhuǎn)換部的表面粗糙度為Rz為0.1μm以上3μm以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,還具備:
防氧化層,配設(shè)于隔著所述防擴(kuò)散層與所述熱電轉(zhuǎn)換部相反側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,其中,
所述防氧化層包括Au層、Ag層以及Cu層中的至少一種金屬層。
7.一種錫基熱電轉(zhuǎn)換模塊,具備:
熱電轉(zhuǎn)換元件;以及
電極材料,經(jīng)由接合材料與所述熱電轉(zhuǎn)換元件接合,
其中,所述熱電轉(zhuǎn)換元件為權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件,
所述接合材料包括不具有流動(dòng)性的非流動(dòng)性接合材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換模塊,其中,
所述非流動(dòng)性接合材料包括Ni的鍍層和Au的鍍層中的至少一方。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換模塊,其中,
所述非流動(dòng)性接合材料包括Ag制的箔。
10.一種錫基熱電轉(zhuǎn)換模塊,具備:
熱電轉(zhuǎn)換元件;以及
電極材料,不經(jīng)由接合材料而與所述熱電轉(zhuǎn)換元件直接接合,
其中,所述熱電轉(zhuǎn)換元件為權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的錫基熱電轉(zhuǎn)換元件。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社安永,未經(jīng)株式會(huì)社安永許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980074811.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L35-00 包含有一個(gè)不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電器件,即顯示出具有或不具有其他熱電效應(yīng)或其他熱磁效應(yīng)的Seebeck效應(yīng)或Peltier 效應(yīng)的熱電器件;專門適用于制造或處理這些熱電器件或其部件的方法或設(shè)備;這些熱電器件
H01L35-02 .零部件
H01L35-12 .結(jié)點(diǎn)引出線材料的選擇
H01L35-28 .只利用Peltier或Seebeck效應(yīng)進(jìn)行工作的
H01L35-34 .專門適用于制造或處理這些器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L35-30 ..按在結(jié)點(diǎn)處進(jìn)行熱交換的方法區(qū)分的
- 圖像轉(zhuǎn)換設(shè)備、圖像轉(zhuǎn)換電路及圖像轉(zhuǎn)換方法
- 數(shù)模轉(zhuǎn)換電路及轉(zhuǎn)換方法
- 轉(zhuǎn)換設(shè)備和轉(zhuǎn)換方法
- 占空比轉(zhuǎn)換電路及轉(zhuǎn)換方法
- 通信轉(zhuǎn)換方法、轉(zhuǎn)換裝置及轉(zhuǎn)換系統(tǒng)
- 模數(shù)轉(zhuǎn)換和模數(shù)轉(zhuǎn)換方法
- 轉(zhuǎn)換模塊以及轉(zhuǎn)換電路
- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件和熱電轉(zhuǎn)換模塊
- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件及熱電轉(zhuǎn)換模塊
- 熱電轉(zhuǎn)換材料、熱電轉(zhuǎn)換元件及熱電轉(zhuǎn)換模塊
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





