[發(fā)明專利]用于檢測層、尤其是防磨損層的粘附特性的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980074540.5 | 申請(qǐng)日： | 2019-10-21 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113015898A | 公開（公告）日： | 2021-06-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | R·布拉克;U·邁 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 羅伯特·博世有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G01N19/04 | 分類號(hào)： | G01N19/04 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 侯鳴慧 |
| 地址： | 德國斯*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 檢測 尤其是 磨損 粘附 特性 方法 | ||
1.用于檢測在襯底上的層、尤其是防磨損層的粘附特性的方法，所述方法具有以下步驟：
a)將至少一個(gè)刮刻線(201、201-1、201-2、201-3、201-4)引入(110)到所述層的表面中，以便引起在所述層中的至少一個(gè)局部損傷，
b)感測(120)至少在所述至少一個(gè)刮刻線(201、201-1、201-2、201-3、201-4)的區(qū)域中的所述層的狀態(tài)，
c)處理(130)所述層，其中，所述處理作為溫度處理和/或化學(xué)處理和/或超聲處理進(jìn)行，
d)直接在所述層的處理之后感測(140)所述層的狀態(tài)，和
e)相互比較(150)所述層的相應(yīng)感測的狀態(tài)并且評(píng)估(160)，以便獲知所述損傷的擴(kuò)展并且由此確定所述層的粘附特性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在引入(110)所述至少一個(gè)刮刻線(201、201-1、201-2、201-3、201-4)之前實(shí)現(xiàn)到所述層的表面中的至少一個(gè)粘附壓痕(202、202’)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)粘附壓痕(202、202’)構(gòu)造為維氏刻痕。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，借助于光學(xué)顯微鏡拍攝和/或掃描電鏡拍攝進(jìn)行根據(jù)步驟b)和d)的狀態(tài)的相應(yīng)感測根據(jù)步驟b)和d)的狀態(tài)的相應(yīng)感測。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，根據(jù)步驟a)將多個(gè)近似平行走向的刮刻線(201、201-1、201-2、201-3、201-4)引入到所述層的表面中。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將至少兩個(gè)粘附壓痕(202、202’)引入到所述層中，其中，所述粘附壓痕(202、202’)直接彼此相鄰地布置。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，根據(jù)步驟a)引入的所述至少一個(gè)刮刻線緊挨著之前引入的所述至少一個(gè)粘附壓痕(202、202’)布置。
8.根據(jù)權(quán)利要求2至7中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在引入(102)所述至少一個(gè)粘附壓痕之前進(jìn)行要檢測的層的溫度預(yù)處理(101)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)刮刻線(201、201-1、201-2、201-3、201-4)構(gòu)造為納米劃痕。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述至少一個(gè)刮刻線(201、201-1、201-2、201-3、201-4)構(gòu)造為雕刻部。
11.根據(jù)權(quán)利要求2至10中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在比較和評(píng)估時(shí)考慮泡形脫落部的數(shù)量和/或尺寸和/或所述泡形脫落部相對(duì)于刻痕的相應(yīng)距離作為用于要檢測的層的粘附特性的量度。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在比較和評(píng)估時(shí)考慮速度v作為用于要檢測的層的粘附特性的量度，一個(gè)或多個(gè)分層以該速度根據(jù)按步驟c)實(shí)施的處理的持續(xù)時(shí)間Δt和在此實(shí)現(xiàn)和探測的生長長度Δs擴(kuò)展。
13.用于實(shí)施根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法的設(shè)備，所述設(shè)備具有用于將至少一個(gè)刮刻線(201、202-1、201-2、201-3、201-4)引入到層中的器件(401)、用于感測要檢測的層的狀態(tài)的器件(402)、用于處理所述層的器件(403)和用于比較和評(píng)估所述層的相應(yīng)感測的狀態(tài)的器件(404)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，用于感測所述層的狀態(tài)的器件(402)具有光學(xué)顯微鏡裝置和/或掃描電鏡裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的設(shè)備，其特征在于，用于比較(150)和評(píng)估(160)的器件(404)具有計(jì)算單元，所述計(jì)算單元與用于感測所述層的狀態(tài)的器件(402)處于信號(hào)和數(shù)據(jù)傳輸連接(404’)中。
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