[發明專利]X射線源的機械對準

在審

• 申請號: 201980071958.0
• 申請日: 2019-11-04
• 公開（公告）號: CN113039625A
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 約翰·克龍斯泰特;烏爾夫·倫德斯托姆;波爾·塔克曼
• 申請（專利權）人: 伊克斯拉姆公司
• 主分類號: H01J35/06
• 分類號: H01J35/06;H01J35/08;H01J35/14;H01J35/24;H05G1/30;H05G2/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 李健

1.一種X射線源(100)，該X射線源被配置為在電子束(e)與液體射流靶標之間相互作用時發射X射線輻射(X)，該X射線源包括：

電子源(110)，該電子源包括被配置為發射電子的陰極(112)和被配置為使所發射的電子加速以形成該電子束的陽極電極(114)；

調節裝置(120)，該調節裝置被配置為調節該電子源的該陽極電極與該陰極之間的相對取向；

聚焦裝置(152)，該聚焦裝置被配置為根據聚焦設置將該電子束聚焦在該液體射流靶標上；

束取向傳感器(130)，該束取向傳感器被布置為生成指示該電子束相對于傳感器區域的取向的信號；以及

控制器(140)，該控制器可操作地連接到該聚焦裝置、該束取向傳感器和該調節裝置；

其中，該控制器被配置為使該調節裝置調節該陽極電極與該陰極之間的相對取向，使得當改變該聚焦設置時，從該傳感器接收的信號在預定區間內改變。

2.根據權利要求1所述的X射線源，進一步包括電子光學裝置(150)，該電子光學裝置被配置為根據由該控制器提供的對準設置來調節該電子束的取向，其中，該控制器被配置為調節該對準設置，使得所生成的信號指示該電子束被定向在相對于該傳感器區域的預定位置處。

3.根據權利要求2所述的X射線源，其中，該對準設置與由該電子光學裝置生成的電磁場相對應，并且其中，控制器被進一步配置為調節該陽極電極與該陰極之間的相對取向，使得將該電子束定向在該預定位置處所需的對準設置與減小的電磁場相對應。

4.根據權利要求1所述的X射線源，進一步包括電子光學裝置(150)，該電子光學裝置被配置為調節該電子束的取向并提供指示該電子束的取向的進一步的信號，其中，該控制器被配置為從該電子光學裝置接收該進一步的信號，并使該調節裝置基于所述進一步的信號來調節該陽極電極與該陰極之間的相對取向。

5.根據權利要求2或4所述的X射線源，其中：

該電子光學裝置包括對準線圈；

該進一步的信號指示由該對準線圈生成的場；并且

該控制器被配置為使該調節裝置調節該陽極電極與該陰極之間的相對取向以使得所述場減小。

6.根據前述權利要求中任一項所述的X射線源，其中：

該陰極附接到可移動的凸緣(116)，從而允許改變該陽極電極與該陰極之間的相對取向；并且

該調節裝置是連接到該凸緣并且被布置為調節該凸緣的角度取向的致動器。

7.根據權利要求6所述的X射線源，其中，該凸緣可樞轉地連接到球形接頭(118)。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的X射線源，其中：

該陰極附接到可移動的凸緣(116)，從而允許沿兩個方向改變該陽極電極與該陰極之間的相對取向；

該調節裝置包括兩個致動器，這些致動器連接到該凸緣并且被布置為沿著所述兩個方向調節該凸緣的角度取向；并且其中，

該凸緣可樞轉地連接到球形接頭(118)。

9.根據前述權利要求中任一項所述的X射線源，進一步包括靶標生成器，該靶標生成器被配置為生成形成該靶標的液態金屬射流，其中，如從該電子束的方向所看到的，該傳感器區域被布置在該靶標的后面。

10.一種用于對準液體射流靶標X射線源的方法，包括：

從陰極(112)發射(610)電子；

借助于陽極電極(614)使所發射的電子加速(620)以形成電子束(e)；

通過將至少兩個聚焦設置應用于聚焦線圈來聚焦該電子束；

生成(630)指示針對該至少兩個聚焦設置的該電子束相對于傳感器區域的取向的信號；

借助于控制器(140)調節(640)該陽極電極與該陰極之間的相對取向，使得針對該至少兩個聚焦設置的所生成的信號之間的差在預定區間內。