[發明專利]用于表面清潔設備的多旋流器陣列和包含其的表面清潔設備有效
| 申請號: | 201980070862.2 | 申請日: | 2019-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN112969394B | 公開(公告)日: | 2023-01-13 |
| 發明(設計)人: | W·E·康拉德 | 申請(專利權)人: | 奧馬克羅知識產權有限公司 |
| 主分類號: | A47L9/16 | 分類號: | A47L9/16 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;郭海娜 |
| 地址: | 加拿大,*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 表面 清潔 設備 多旋流器 陣列 包含 | ||
本發明公開了一種表面清潔設備,其具有上游空氣處理構件和下游旋流清潔級,所述下游旋流清潔級包括多個平行的旋流器。每個旋流器具有旋流器旋轉軸線、第一端、軸向間隔開的第二端、在所述第一端和所述第二端之間延伸的側壁、空氣入口、空氣出口以及斜向污物出口。表面清潔設備還包括污物收集腔室和污物收集空間。
技術領域
本發明總體上涉及一種用于表面清潔設備的旋流器組件,更具體地,涉及一種具有旋流清潔級的旋流器組件,該旋流清潔級包括平行布置的多個旋流器。
背景技術
已知有各種類型的表面清潔設備,包括立式表面清潔設備、罐式表面清潔設備、桿式表面清潔設備、手持表面清潔設備、以及中央真空系統。
已知有使用一個或多個旋流清潔級以從氣流中去除顆粒物質(例如灰塵和污物)的表面清潔設備。
可以包括平行的多個旋流器的第二旋流清潔級可以設置在第一空氣處理構件(例如,第一旋流清潔級)的下游和抽吸馬達的上游。第二旋流清潔級通常被設置成從離開第一空氣處理構件的氣流中去除沒有被第一空氣處理構件從氣流中去除的顆粒物質。
發明內容
以下介紹用于向讀者介紹隨后更詳細的討論。該介紹無意于限制或限定任何要求保護的或尚未要求保護的發明。一個或多個發明可以存在于包括其權利要求和附圖的本文件的任何部分中公開的元素或處理步驟的任何組合或子組合中。
根據本發明的一個方面,旋流清潔級(如果設置了上游空氣處理構件,例如上游旋流清潔級,則其可以被稱為下游旋流清潔級或第二旋流清潔級)可以在主空氣處理構件的下游用作空氣處理構件,以從離開第一空氣處理構件的氣流中去除顆粒物質(例如,污物、灰塵)。旋流清潔級包括平行布置的多個第二級旋流器腔室。每個第二級旋流器腔室具有污物出口,該污物出口被構造成使得離開第二級旋流器的污物的至少一部分,優選地是大部分或基本上全部在徑向方向(即,大致垂直于第二級旋流器腔室的旋流器軸線)上行進。這樣的污物出口可以被表征為“斜向”污物出口。可以在兩個或更多個第二級旋流器腔室的污物出口與第二級污物收集區域之間設置污物收集空間(plenum)。
為第二級旋流器腔室設置斜向污物出口可以促進旋流清潔級的更緊湊的設計。例如,旋流清潔級可以具有與第二級旋流器腔室的長度大約相同的總長度。
根據該廣泛的方面,設置了一種表面清潔設備,包括:
(a)上游空氣處理構件;
(b)下游旋流清潔級,其包括多個平行的旋流器,每個旋流器具有旋流器旋轉軸線、第一端、軸向間隔開的第二端、在所述第一端和所述第二端之間延伸的側壁、空氣入口、空氣出口以及斜向污物出口;
(c)污物收集腔室;以及
(d)污物收集空間,其定位于至少一些所述污物出口和所述污物收集腔室之間。
在一些實施方案中,所述旋流器空氣入口可以具有徑向向外范圍,并且所述污物收集空間可以具有徑向外側范圍,所述徑向外側范圍在所述旋流器空氣入口的所述徑向向外范圍的徑向外側間隔開。
在一些實施方案中,橫向于所述旋流器旋轉軸線的平面可以延伸穿過所述旋流器和所述污物收集空間。
在一些實施方案中,所述平面可以延伸穿過所述斜向污物出口。
在一些實施方案中,所述旋流器空氣入口可以包括具有入口端和出口端的通道,并且所述污物收集空間可以具有徑向外側范圍,所述徑向外側范圍在所述旋流器空氣入口的入口端的徑向外側間隔開。
在一些實施方案中,橫向于所述旋流器旋轉軸線的平面可以延伸穿過所述旋流器和所述污物收集空間。
在一些實施方案中,所述平面可以延伸穿過所述斜向污物出口。
在一些實施方案中,所述斜向污物出口可以包括在所述側壁中的開口。
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