[發(fā)明專利]培養(yǎng)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980069924.8 | 申請(qǐng)日： | 2019-09-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112912483A | 公開（公告）日： | 2021-06-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 恩田萌;澤井章人 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 普和希控股公司 |
| 主分類號(hào)： | C12M1/00 | 分類號(hào)： | C12M1/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 劉文海 |
| 地址： | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 培養(yǎng) 裝置 | ||
培養(yǎng)裝置具備配置于培養(yǎng)空間并貯存加濕用的液體的加濕盤、加熱所述加濕盤的第一加熱器、以及用于控制所述培養(yǎng)空間的溫度的第二加熱器，所述第一加熱器與所述第二加熱器分別設(shè)置。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及培養(yǎng)裝置。
背景技術(shù)
在培養(yǎng)細(xì)胞、微生物等培養(yǎng)物的培養(yǎng)裝置(孵化器)中，需要控制培養(yǎng)空間的濕度以使其適于培養(yǎng)物的培養(yǎng)(例如參照專利文獻(xiàn)1)。
使用放置于培養(yǎng)空間的底壁的加濕盤來進(jìn)行培養(yǎng)空間的加濕。具體而言，通過利用設(shè)置于該底壁的加熱線對(duì)加濕盤進(jìn)行加熱而使該加濕盤內(nèi)的水蒸發(fā)，從而對(duì)培養(yǎng)空間進(jìn)行加濕。
利用用于調(diào)整培養(yǎng)空間的溫度的加熱線的一部分，具體而言，利用位于加濕盤的周邊的一部分加熱線，對(duì)加濕盤進(jìn)行加熱。即，單一的加熱線兼作調(diào)溫用和調(diào)濕用。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1：日本特開2017-201886號(hào)公報(bào)。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
這樣，在現(xiàn)有的培養(yǎng)裝置中，單一的加熱線兼作調(diào)溫用和調(diào)濕用，因此，加熱線的容量變大，產(chǎn)生如下問題。
(1)難以精細(xì)地控制加熱線的輸出，進(jìn)而難以精細(xì)地控制濕度。
(2)加熱線的響應(yīng)性低，無法將培養(yǎng)空間的濕度迅速提高至適于培養(yǎng)物的培養(yǎng)的范圍。
本發(fā)明是為了解決這樣的問題而完成的，其目的在于提供一種能夠精細(xì)且迅速地調(diào)整培養(yǎng)空間的濕度的培養(yǎng)裝置。
解決問題的方案
為了解決上述以往的問題，本發(fā)明的培養(yǎng)裝置具備配置于培養(yǎng)空間并貯存加濕用的液體的加濕盤、對(duì)所述加濕盤進(jìn)行加熱的第一加熱器、以及用于控制所述培養(yǎng)空間的溫度的第二加熱器，所述第一加熱器與所述第二加熱器分別設(shè)置。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明，能夠精細(xì)且迅速地調(diào)整培養(yǎng)空間的濕度。
附圖說明
圖1是從右側(cè)觀察本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的培養(yǎng)裝置的示意性的縱剖面。
圖2是表示加熱線的圖案的示意性的俯視圖。
圖3是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的培養(yǎng)裝置的控制結(jié)構(gòu)的主要部分的示意性的功能框圖。
具體實(shí)施方式
下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的培養(yǎng)裝置進(jìn)行說明。以下所示的實(shí)施方式只不過是例示，并不排除在以下的實(shí)施方式中未明確示出的各種變形或技術(shù)的應(yīng)用。另外，實(shí)施方式的各結(jié)構(gòu)可以在不脫離它們的主旨的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變形來實(shí)施。并且，實(shí)施方式的各結(jié)構(gòu)可以根據(jù)需要進(jìn)行取舍選擇或適當(dāng)組合。
以下，在培養(yǎng)裝置中，將使用時(shí)用戶面對(duì)的一側(cè)(后述的外門3a和內(nèi)門3b所在的一側(cè))設(shè)為前，將其相反側(cè)設(shè)為后。另外，以從前向后觀察的情況為基準(zhǔn)來確定左右。
此外，在用于說明實(shí)施方式的所有圖中，原則上對(duì)相同要素標(biāo)以相同附圖標(biāo)記，有時(shí)省略其說明。
[1.結(jié)構(gòu)]
[1-1.整體結(jié)構(gòu)]
參照?qǐng)D1對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的培養(yǎng)裝置的整體進(jìn)行說明。圖1是從右側(cè)觀察本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的培養(yǎng)裝置的示意性的縱剖面。
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