[發(fā)明專利]用于光學(xué)觸摸檢測(cè)裝置的阻擋層和觸覺(jué)表面特征

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980069325.6
• 申請(qǐng)日: 2019-08-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113056722A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R·庫(kù)伯懷特;O·德拉姆
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 貝奇克有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/042
• 分類號(hào): G06F3/042
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 徐東升

1.一種光學(xué)觸敏裝置，其包括：

具有觸敏表面的光波導(dǎo)，在所述觸敏表面上面可檢測(cè)觸摸事件；

發(fā)射器和檢測(cè)器，所述發(fā)射器被配置為產(chǎn)生光束，所述光束經(jīng)由全內(nèi)反射行進(jìn)通過(guò)所述波導(dǎo)到達(dá)所述檢測(cè)器，其中在所述觸敏表面上的觸摸干擾所述光束，所述觸敏裝置基于所述受干擾的光束確定觸摸事件；以及

在所述觸敏表面上方的阻擋層，其中所述阻擋層的折射率小于所述光波導(dǎo)的折射率，并且其中所述阻擋層的厚度的一部分小于所述光束的漸逝場(chǎng)深度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述阻擋層的厚度變化，使得所述阻擋層的所述部分的厚度小于所述漸逝場(chǎng)深度，并且另一部分的厚度大于所述漸逝場(chǎng)深度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述光學(xué)觸敏裝置進(jìn)一步包括在所述觸敏表面上的表面特征，所述表面特征被配置為相對(duì)于不存在表面特征減小觸摸物體摩擦。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征是所述阻擋層的一部分并且由所述阻擋層的形狀限定。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征是所述波導(dǎo)的一部分并且由所述波導(dǎo)的形狀限定。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征距所述觸敏表面的高度小于所述光束的漸逝場(chǎng)深度。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征由與所述觸敏表面的材料不同的材料形成。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征的折射率小于所述觸敏表面的材料的折射率。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中表面特征之間的橫向間距不小于典型的人手指脊的大小。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征包括氟或硅樹(shù)脂中的至少一種。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述阻擋層包括多孔材料或嵌入的微球。

12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征包括多孔材料或嵌入的微球。

13.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征的一部分包括不平行于所述觸敏表面的平面表面。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征的所述部分包括是三棱柱、棱錐或梯形棱柱中的至少一個(gè)的表面特征。

15.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征的一部分包括圓形表面。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征的所述部分包括是半球凸塊或圓形凸塊中的至少一個(gè)的表面特征。

17.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征被隨機(jī)地布置在所述觸敏表面上。

18.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述表面特征的形狀、高度或?qū)挾戎械闹辽僖粋€(gè)跨所述觸敏表面變化。

19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述光學(xué)觸敏裝置進(jìn)一步包括在所述阻擋層上的抗反射層。

20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的光學(xué)觸敏裝置，其中所述阻擋層和所述抗反射層的組合厚度小于所述漸逝場(chǎng)深度。