[發明專利]多層二氧化硅玻璃體的制造方法有效
| 申請號： | 201980068085.8 | 申請日： | 2019-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN112867698B | 公開（公告）日： | 2023-03-31 |
| 發明（設計）人： | 森竜也;須釜明彥 | 申請（專利權）人： | 信越石英株式會社;賀利氏石英玻璃有限兩合公司 |
| 主分類號： | C03B20/00 | 分類號： | C03B20/00;B05D3/02;B05D7/00;B05D7/24;C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 章蕾 |
| 地址： | 日本東京都新*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多層 二氧化硅 玻璃體 制造 方法 | ||
1.一種多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其中在包含硅質材料的硅質襯底的表面上提供透明二氧化硅玻璃層，所述方法的特征在于包含：
制備所述硅質襯底的步驟；
制備二氧化硅粒子分散在液體中的二氧化硅漿料的步驟；
將所述二氧化硅漿料施用到所述硅質襯底的所述表面上的步驟；
通過對所述硅質襯底施加振動而使涂布在所述硅質襯底的所述表面上的所述二氧化硅漿料平坦的步驟；
將所述平坦的二氧化硅漿料干燥的步驟；以及
通過加熱使所述干燥的二氧化硅漿料玻璃化，以形成所述透明二氧化硅玻璃層的步驟，
其中所述二氧化硅漿料含有包含硅質材料且粒度在200μm與700μm之間的二氧化硅大粒子，以及包含硅質材料且粒度為30μm或更大且小于200μm的二氧化硅中等粒子；且二氧化硅大粒子質量/二氧化硅中等粒子質量，即所述二氧化硅大粒子的質量與所述二氧化硅中等粒子的質量的比率，設置在0.25與7.0之間。
2.根據權利要求1所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述振動的振動加速度設置在0.10m/s2與5.0m/s2之間。
3.根據權利要求1所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述二氧化硅漿料中含有的所述二氧化硅大粒子和所述二氧化硅中等粒子的總質量為所述二氧化硅漿料中含有的所有包含硅質材料的粒子的質量的80％或更多。
4.根據權利要求1至3中任一權利要求所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述二氧化硅漿料含有包含硅質材料且粒度小于30μm的二氧化硅小粒子；以及
所述二氧化硅漿料中含有的所述二氧化硅小粒子占所述二氧化硅漿料中含有的所有包含硅質材料的粒子的質量的2％或更多。
5.根據權利要求1至3中任一權利要求所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述二氧化硅漿料中含有的所述液體是水。
6.根據權利要求1至3中任一權利要求所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述硅質襯底包含不透明二氧化硅玻璃。
7.根據權利要求1至3中任一權利要求所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述二氧化硅漿料的玻璃化是通過采用燃燒器加熱來進行。
8.根據權利要求1至3中任一權利要求所述的多層結構二氧化硅玻璃體的制造方法，其特征在于所述二氧化硅漿料在使所述硅質襯底振動的同時涂布在所述硅質襯底上。
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