[發明專利]聚烯烴膜及脫模用膜

在審

• 申請號: 201980064163.7
• 申請日: 2019-09-27
• 公開（公告）號: CN112771102A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 岡田一馬;大倉正壽;山中康平
• 申請（專利權）人: 東麗株式會社
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;B29C55/14;B29C55/28;B32B27/32;C08L23/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 馬妮楠;段承恩

本發明以提供脫模性、品質優異的聚烯烴膜作為課題。本發明的聚烯烴膜的至少一面(A面)的平均粗糙度Sa為65～600nm，上述A面的山高度Sp與A面的谷深度Sv之比即Sp/Sv的值為2.5以下，霧度為30％以下。

技術領域

本發明涉及脫模性、品質優異的、可以作為脫模用膜而適合使用的聚烯烴膜。

背景技術

聚烯烴膜由于透明性、機械特性、電氣特性等優異，因此在以包裝用途、脫模用途、帶用途、電纜繞包、電容器為代表的電氣用途等各種用途中被使用。特別是，由于表面的脫模性、機械特性優異，因此適合作為塑料制品、建材、光學構件等各種構件的脫模用膜、工序膜使用。

對脫模用膜所要求的特性根據其使用用途來適當設定，但近年來，有時作為感光性樹脂等具有粘著性的樹脂層的覆蓋膜而使用。在覆蓋具有粘著性的樹脂層的情況下，如果覆蓋膜的脫模性差，則有時在剝落時不能干凈地剝離，作為保護面的樹脂層的形狀變化，或在保護面殘留剝離痕。因此，有時使用通過將膜表面粗面化，減少與樹脂層的接觸面積，從而使脫模性提高的方法。然而，如果提高覆蓋膜表面的粗度，則易于形成粗大突起，例如在作為光學用構件的脫模膜而使用時，有時膜的表面凹凸轉印于光學用構件而對制品的視認性造成影響。基于以上情況，為了在光學構件等要求特性高的脫模膜中使用，有時要求不形成粗大突起，均勻并且微細地粗面化了的、兼備脫模性、品質的膜。

作為粗面化的手段，例如在專利文獻1、2中記載了通過形成作為聚丙烯的晶形之一的β晶的球晶并進行拉伸，從而在膜表面形成凹坑(crater)而粗面化，并提高了工序輸送性的例子。此外，在專利文獻3中記載了在膜內添加粒子，進行單軸拉伸，從而粗面化，并提高了工序輸送性的例子。此外，在專利文獻4中記載了在膜的內層添加粒子，進行拉伸從而粗面化了的例子。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：國際公開第2016/006578號

專利文獻2：日本特開2017-125184號公報

專利文獻3：日本特開2005-138386號公報

專利文獻4：日本專利第6115687號公報

發明內容

發明所要解決的課題

然而，對于上述專利文獻1、2所記載的方法，存在表面粗糙度不充分的問題。此外專利文獻3所記載的方法也同樣地表面粗糙度不充分。進一步專利文獻4所記載的方法有時由于硬度高的粒子而形成粗大突起，凹凸轉印到光學用構件的樹脂層。

因此本發明的課題是解決上述問題。即，提供脫模性、品質優異的聚烯烴膜。

用于解決課題的手段

為了解決上述課題，達到目的，本發明的聚烯烴膜，其特征在于，至少一面(A面)的平均粗糙度Sa為65～500nm，A面的山高度Sp與谷深度Sv之比即Sp/Sv的值為2.5以下，膜的霧度為30％以下。

發明的效果

本發明的聚烯烴膜由于脫模性、耐熱性、品質優異，因此可以適合作為脫模用膜使用。

具體實施方式

本發明的聚烯烴膜的至少一面(A面)的平均粗糙度Sa為65～600nm，上述A面的山高度Sp與A面的谷深度Sv之比即Sp/Sv的值為2.5以下，霧度為30％以下。