[發明專利]改進的照明設備

在審

• 申請號: 201980062648.2
• 申請日: 2019-09-23
• 公開（公告）號: CN112753146A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發明（設計）人: 讓-弗朗西斯.蘇仁;郭百鳴;馬爾庫什.羅西;安德森.辛古拉尼
• 申請（專利權）人: ams傳感器亞洲私人有限公司
• 主分類號: H01S5/42
• 分類號: H01S5/42;H01S5/40;G01S7/481
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳金林

1.一種設備，包括：

照明設備，用于發射照明光束，所述照明設備包括:

發射器陣列，包括多個光發射器；以及

元結構或微棱鏡陣列，包括多個透射區域，所述微棱鏡的元結構被定位成接收從所述發射器陣列發射的光，其中來自所述微棱鏡的元結構的光形成照明光束，

其中所述多個透射區域中的第一透射區域被布置為在與所述多個透射區域中的第二透射區域不同的方向上發光。

2.根據權利要求1所述的設備，其中所光發射器包括垂直腔面發射激光器VCSELs。

3.根據前述權利要求中任一項所述的設備，包括:

基板，所述發射器陣列形成在所述基板的發射層中；以及

光學層，放置在所述基板上，在所述光學層中形成所述元結構或微棱鏡陣列。

4.根據權利要求3所述的設備，其中所述光學層放置在基板的所述發射層上。

5.根據權利要求3或4所述的設備，其中所述光學層包括外延半導體。

6.根據權利要求3至5中任一項所述的設備，其中所述光學層包括聚合物膜。

7.根據權利要求3至6中任一項所述的設備，其中發射層在所述基板的第一表面上，并且其中所述光學層放置在所述基板的與所述第一表面相對的第二表面上。

8.根據權利要求7所述的設備，其中所述基板對于從所述光發射器發射的光至少是部分透明的。

9.根據權利要求3至8中任一項所述的設備，其中所述光學層具有至少1.5的折射率。

10.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中每個光發射器發射單個光束，并且其中所述照明光束的發散度大于從所述光發射器發射的每個單個光束的發散度。

11.根據權利要求10所述的設備，其中所述照明光束的發散度在大約20°和大約180°之間。

12.根據權利要求11所述的設備，其中所述照明光束的發散度在大約60°和大約70°之間。

13.根據權利要求10至12中任一項所述的設備，其中所述照明光束在第一方向上的發散度不同于照明光束在第二方向上的發散度。

14.根據權利要求13所述的設備，其中所述照明光束在所述第一方向上的發散度在大約50°和大約60°之間，并且所述照明光束在所述第二方向上的發散度在大約60°和大約70°之間。

15.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中所述微棱鏡或元結構中的每一個至少部分地與所述光發射器中的相應的一個重疊。

16.根據權利要求15所述的設備，其中所述微棱鏡或元結構中的每一個至少部分地與多個相應的光發射器重疊。

17.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中所述微棱鏡或元結構中的至少一個被配置為將從相應的光發射器接收的光偏轉。

18.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述微棱鏡或元結構的每個區域被定位成接收來自所述發光器的相應子集的光以及輸出相應的子光束，從所述微棱鏡或元結構的第一區域輸出的第一子光束具有與所述從微棱鏡或元結構的第二區域輸出的第二子光束不同的偏轉角。

19.根據權利要求18所述的設備，其中，定位所述微棱鏡或元結構的所述第一區域和所述第二區域使得所述第一子光束與所述第二子光束在所述第一子光束和所述第二子光束的半峰全寬(FWHM)點處重疊。