[發明專利]防反射膜、光學元件、防反射膜的制造方法及微細凹凸結構的形成方法有效
| 申請號： | 201980061244.1 | 申請日： | 2019-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN112740081B | 公開（公告）日： | 2022-08-26 |
| 發明（設計）人： | 吉弘達矢;板井雄一郎 | 申請（專利權）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | G02B1/118 | 分類號： | G02B1/118;G02B1/115 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 高穎 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 光學 元件 制造 方法 微細 凹凸 結構 形成 | ||
1.一種防反射膜，其包括微細凹凸層，所述微細凹凸層配置在基材的一面且以氧化鋁的水合物的板狀晶體為主成分，其中，
所述微細凹凸層具有在從作為表面的凸部前端朝向所述基材側的厚度方向上逐漸變化且在最靠所述基材側的界面處成為最大值的折射率分布，所述表面的折射率為1.01以下，在將作為防反射對象的光的波長區域中的最長的波長設為λmax時，從該表面至沿所述厚度方向100nm為止的第1漸變折射率區域中的最大的折射率梯度為0.4/λmax以下。
2.根據權利要求1所述的防反射膜，其中，
在所述微細凹凸層中，從所述厚度方向上的所述100nm的位置至所述基材側的所述界面為止的第2漸變折射率區域中的最大的折射率梯度為0.8/λmax以下。
3.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，
作為所述防反射對象的光的波長區域為400nm～800nm。
4.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，
所述折射率分布中的所述最大值為1.5以上。
5.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，
所述微細凹凸層的厚度為550nm 以上。
6.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，
所述基材在λmax下的折射率超過1.5。
7.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，
所述防反射膜在所述微細凹凸層與所述基材之間具備漸變折射率層，
所述漸變折射率層具有在從與所述微細凹凸層的界面朝向所述基材的厚度方向上折射率逐漸變化的折射率分布，與所述微細凹凸層的界面處的折射率和該界面處的所述微細凹凸層的折射率之差為0.01以下，與所述基材的界面處的折射率和所述基材的折射率之差為0.01以下。
8.根據權利要求7所述的防反射膜，其中，
在所述漸變折射率層中，所述厚度方向上的最大的折射率梯度為1.6/λmax以下。
9.根據權利要求7所述的防反射膜，其中，
所述漸變折射率層以氧化硅、氮化硅、氮氧化硅及氧化鈮中的任意一種以上為主成分。
10.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，
所述防反射膜在所述微細凹凸層與所述基材之間具備折射率匹配層，所述折射率匹配層交替地具備具有相對高的折射率的高折射率層和具有相對低的折射率的低折射率層。
11.一種光學元件，其包括：基材；及權利要求1至10中任一項所述的防反射膜，該防反射膜配置在該基材的一面。
12.一種防反射膜的制造方法，其包括：
薄膜形成工序，在基材上的成膜面形成包含鋁元素的薄膜；
溫水處理工序，通過對該薄膜實施溫水處理來形成由以氧化鋁的水合物為主成分的板狀晶體構成的微細凹凸結構；及
重復工序，將所述微細凹凸結構的表面作為所述成膜面而重復進行所述薄膜形成工序及所述溫水處理工序。
13.一種微細凹凸結構的形成方法，其包括：
薄膜形成工序，在基材上的成膜面形成包含鋁元素的薄膜；
溫水處理工序，通過對所述薄膜實施溫水處理來形成由以氧化鋁的水合物為主成分的板狀晶體構成的微細凹凸結構；及
重復工序，將所述微細凹凸結構的表面作為所述成膜面而重復進行所述薄膜形成工序及所述溫水處理工序。
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